[发明专利]光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法

权利要求书

1.一种光学相位差构件，其特征在于，其具备：

透明基体，其具有凹凸图案；

被覆层，其被覆所述凹凸图案的凹部及凸部；

间隙部，其被隔于由所述被覆层被覆的所述凹凸图案的所述凸部之间；及

密闭层，其以连结所述凹凸图案的所述凸部的顶部且密闭所述间隙部的方式，设置于所述凹凸图案的上部；且

所述密闭层与所述被覆层以相同材料形成；

所述被覆层被覆所述凸部的上部及侧部；

于波长550nm，所述凸部的折射率n₁及所述被覆层的折射率n₂满足n₂－n₁≦0.8。

2.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，所述间隙部的高度超过所述凹凸图案的所述凸部的高度。

3.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，于波长550nm，所述凸部的折射率n₁为1.6以上。

4.如权利要求3所述的光学相位差构件，其特征在于，于波长550nm，所述凸部的折射率n₁为1.72以上。

5.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，所述凹凸图案的所述凸部的剖面为大致梯形；所述大致梯形包括大致四边形和大致三角形，所述大致四边形的各边可弯曲。

6.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，所述被覆层及所述密闭层由金属、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、金属氮氧化物或金属卤化物所构成。

7.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，构成所述凹凸图案的材料为光硬化性树脂或热硬化性树脂。

8.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，构成所述凹凸图案的材料为溶胶凝胶材料。

9.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，于所述间隙部中存在空气。

10.如权利要求1或2所述的光学相位差构件，其特征在于，所述被覆层的材料的折射率高于所述凹凸图案的材料的折射率，且所述被覆层的材料的折射率为1.8～2.6。

11.一种复合光学构件，其特征在于，其具备：

权利要求1至10中任一权利要求所述的光学相位差构件；及

偏光板，其贴附于所述透明基体的形成有所述凹凸图案的面的相反侧的面或所述密闭层。

12.一种显示装置，其特征在于，其具备：

权利要求11所述的复合光学构件；及

显示元件，其贴附于所述透明基体的形成有所述凹凸图案的面的相反侧的面或所述密闭层。

13.一种光学相位差构件的制造方法，其特征在于，其具有以下步骤：

准备具有凹凸图案的透明基体的步骤；

形成被覆所述凹凸图案的凹部及凸部的表面的被覆层的步骤；

以连结形成有所述被覆层的所述凹凸图案的邻接的凸部，且将被隔于所述凸部之间的间隙部密闭的方式，于所述凹凸图案上形成密闭层的步骤；且

所述密闭层与所述被覆层以相同材料形成；

所述被覆层被覆所述凸部的上部及侧部；

于波长550nm，所述凸部的折射率n₁、所述被覆层的折射率n₂满足n₂－n₁≦0.8。

14.如权利要求13所述的光学相位差构件的制造方法，其特征在于，其于所述被覆层形成步骤及所述密闭层形成步骤中，通过溅射、CVD或蒸镀而形成所述被覆层及所述密闭层。