[发明专利]抗反射膜有效

专利信息
申请号: 201780005502.5 申请日: 2017-03-03
公开(公告)号: CN108473791B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 金芙敬;边真锡;宋仁永;张影来;张锡勋 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: C09D5/00 分类号: C09D5/00;C09D183/04;C08J5/18;C08J3/24;C08J7/046;C08L33/08
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;郑毅
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 反射
【权利要求书】:

1.一种抗反射膜,包括:包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层,所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物;和硬涂层;

其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97%或更小,以及

所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小,

其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量%至60重量%,

其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000,以及

其中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定,在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5%至50%的水性碱溶液中1秒至100秒。

2.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中

当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时,

满足条件A为1.20至1.65,B为0至0.05,并且C为0至0.05:

[一般公式1]

其中,在以上一般公式1中,n(λ)是波长为λ时的折射率,λ在300nm至1800nm的范围内,以及A、B和C为柯西参数。

3.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中

当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时,

满足条件A为1.30至1.75,B为0至0.05,并且C为0至0.005:

[一般公式1]

其中,在以上一般公式1中,n(λ)是波长为λ时的折射率,λ在300nm至1800nm的范围内,以及A、B和C为柯西参数。

4.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm,以及所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm。

5.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中,来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50。

6.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团:醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇。

7.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团:醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基。

8.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷。

9.根据权利要求8所述的抗反射膜,其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团,并且其中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团。

10.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。

11.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者:(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基。

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