[发明专利]用于校准投影设备的方法以及用于运行如此校准的投影设备的方法有效

专利信息
申请号: 201780006330.3 申请日: 2017-01-09
公开(公告)号: CN108463999B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: A·埃勒特;J·海因策尔曼 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;G02B27/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 郭毅
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 校准 投影设备 方法 以及 运行 如此
【权利要求书】:

1.一种用于校准投影设备的方法,所述投影设备用于展示离散存储的图像信息,所述展示借助如下实现:

可操控且可调节的至少两个光源,所述至少两个光源分别发送扫描射束的一个射束组成部分,以及

借助用于所述射束组成部分的聚焦、取向和运动的装置,使得相应像素能够在投影面上尽可能地叠加并且能够以预给定的轨迹在所述投影面上运动,

其中,所述方法包括以下步骤:

a.确定对于所述扫描射束的参考射束;

b.对于所述参考射束的x投影仪坐标和y投影仪坐标分别确定去扭曲函数,其中,每个去扭曲函数将相应的投影仪坐标转换成配属于所述图像信息的相应的图像坐标;

c.对于所述扫描射束的所有射束组成部分对于所述x投影仪坐标和所述y投影仪坐标分别确定错位函数,其中,每个错位函数逼近所述参考射束的相应的x或y图像坐标与所述扫描射束的相应的射束组成部分的x或y图像坐标之间的错位;

d.提供用于所述参考射束的去扭曲函数并且

e.提供用于所述扫描射束的所有射束组成部分的错位函数,其中,通过多项式来逼近用于各个射束组成部分的错位函数,并且通过比所述去扭曲函数更低阶的多项式来逼近所述错位函数。

2.根据权利要求1所述的用于校准投影设备的方法,其特征在于,对于所述扫描射束的所有射束组成部分,对于所述x投影仪坐标和对于所述y投影仪坐标分别确定去扭曲函数,

其中,每个去扭曲函数将所述相应的投影仪坐标转换成配属于所述图像信息的相应的图像坐标,并且

对于所述扫描射束的所有射束组成部分对于所述x投影仪坐标和所述y投影仪坐标确定错位函数,其方式是:逼近所述参考射束的相应的x或y去扭曲函数与所述扫描射束的相应的射束组成部分的x或y去扭曲函数之间的错位。

3.根据权利要求1或2所述的用于校准投影设备的方法,其特征在于,确定所述扫描射束的射束组成部分作为参考射束。

4.根据权利要求1或2所述的用于校准投影设备的方法,其特征在于,确定参考射束,其方式是:在各个射束组成部分的射束路径上求平均。

5.根据权利要求1或2所述的用于校准投影设备的方法,其特征在于,将所述去扭曲函数确定为如下形式的n次多项式:

6.根据权利要求5所述的用于校准投影设备的方法,其特征在于,将所述错位函数确定为如下形式的m次多项式:

7.根据权利要求6所述的用于校准投影设备的方法,其中,mn。

8.一种用于运行投影设备的方法,所述投影设备用于展示离散地存储的图像信息,所述展示借助如下实现:

可操控且可调节的至少两个光源,所述至少两个光源分别发送扫描射束的一个射束组成部分,并且

借助用于所述射束组成部分的聚焦、取向和运动的装置,使得相应像素能够在投影面上尽可能地叠加并且能够以预给定的轨迹在所述投影面上运动,

其中,已经使用根据权利要求1至7中任一项所述的方法对所述投影设备进行了校准,

其特征在于,

a.给每个由光源生成的像素相应于其在所述轨迹上的位置配属x和y投影仪坐标,其中,给不同光源的同时生成的像素配属相同的x和y投影仪坐标;

b.借助x去扭曲函数或y去扭曲函数将所述x和y投影仪坐标中的每个转换成所述图像信息的相应的图像坐标,

其中,所述去扭曲函数在根据权利要求1至7中任一项所述的用于校准投影设备的方法中已经预先对于参考射束确定,并且

其中,如此确定的图像坐标充当对于所有光源的参考像素位置;

c.借助x或y错位函数确定由所述各个光源生成的像素的位置相对于相应的参考像素位置的错位,所述x或y错位函数在根据权利要求1至7中任一项所述的用于校准投影设备的方法中已经预先对于每个光源确定;并且

d.将所述对于每个光源个体化确定的错位加和到所述参考像素位置的图像坐标上,以便个体化地确定所述各个光源的像素的图像坐标。

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