[发明专利]用于二维地偏转激光射束的设备有效

专利信息
申请号: 201780006540.2 申请日: 2017-01-05
公开(公告)号: CN108602662B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: F·尤特齐;D·巴亚特;S·拉尼 申请(专利权)人: 通快瑞士股份公司
主分类号: B81B3/00 分类号: B81B3/00;G02B26/08
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 郭毅
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 二维 偏转 激光 设备
【权利要求书】:

1.一种用于二维地偏转激光射束的设备(1),所述设备具有:

衬底(4),其具有衬底开口(5),

设置在所述衬底(4)上的弹簧膜片(6),所述弹簧膜片具有延伸到所述衬底开口(5)中的弹簧臂(7)以及布置在所述衬底开口(5)中的由所述弹簧臂(7)承载的中央区段(8),所述中央区段能够二维地倾斜,并且能够在垂直于弹簧膜片平面延伸的弹簧膜片中央轴线(9)的两个方向(A,B)上轴向移动地支承,

镜(2),所述镜固定在所述弹簧膜片(6)的中央区段(8)上,

磁驱动或静电驱动(12),其用于使镜(2)逆着所述弹簧臂(7)的回复力倾斜,

其特征在于,

所述弹簧膜片(6)具有至少一个末端止挡臂(17),所述至少一个末端止挡臂具有比所述弹簧臂(7)更高的弹簧刚性,并且所述至少一个末端止挡臂以自由端伸到所述衬底开口(5)中直至进入到刚性地固定在所述镜(2)上的构件(3;22)的运动轨道中,以便通过与所述构件(3;22)的共同作用,至少在轴向方向(A)上限制所述中央区段(8)的超过在所述镜(2)的驱动限定的倾斜的情况下的轴向偏转的轴向偏转。

2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,与所述至少一个末端止挡臂(17)共同作用的构件(3;22)布置在所述中央区段(8)的与所述镜(2)相对置的侧上。

3.根据权利要求1或2所述的设备,其特征在于,与所述至少一个末端止挡臂(17)共同作用的构件是所述弹簧膜片(6)或永磁体(3)或所述磁驱动(12)的磁体线圈(10)、静电驱动的电极或另一构件(22)。

4.根据权利要求3所述的设备,其特征在于,所述另一构件由单独的止挡板(22)或由处于所述永磁体(3)与所述弹簧膜片(7)之间的距离保持件(14)的至少一个径向向外伸出的突出部构成。

5.根据权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述中央区段(8)的超过在所述镜(2)的驱动限定的倾斜的情况下的轴向偏转的轴向偏转由另一末端止挡装置(18)也在另一轴向方向(B)上限制,所述另一末端止挡装置与刚性地固定在所述镜(2)上的构件(3)共同作用。

6.根据权利要求5所述的设备,其特征在于,所述另一末端止挡装置(18)由布置在所述构件(3)的运动轨道中的末端止挡件构成。

7.根据权利要求5所述的设备,其特征在于,在所述另一末端止挡装置(18)与与所述另一末端止挡装置共同作用的构件(3;22)之间布置有阻尼器(23)。

8.根据权利要求1或2所述的设备,其特征在于,在所述至少一个末端止挡臂(17)与与所述至少一个末端止挡臂共同作用的构件(3;22)之间布置有阻尼器(23)。

9.根据权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述偏转设备(1)以MEMS技术实施。

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