[发明专利]排气净化装置有效

专利信息
申请号: 201780007090.9 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN108472590B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 糟谷知弘;泷健一;松枝悟司;星野将 申请(专利权)人: 株式会社科特拉
主分类号: B01D53/94 分类号: B01D53/94;B01J23/63;B01J27/053;F01N3/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 王潇悦;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 排气 净化 装置
【权利要求书】:

1.一种排气净化装置,具有第1催化剂层,所述第1催化剂层包含:

使氧化铝载体粒子担载Pd而得到的钯担载催化剂、

使第1二氧化铈-二氧化锆载体粒子担载Rh而得到的第1铑担载催化剂、以及

第2二氧化铈-二氧化锆载体粒子,

所述第2二氧化铈-二氧化锆载体粒子没有担载贵金属,

所述第1二氧化铈-二氧化锆载体粒子中的二氧化铈浓度为30重量%以下,并且所述第2二氧化铈-二氧化锆载体粒子中的二氧化铈浓度大于30重量%。

2.根据权利要求1所述的排气净化装置,所述第1催化剂层还包含硫酸钡。

3.根据权利要求1或2所述的排气净化装置,在所述第1催化剂层的下侧具有第2催化剂层。

4.根据权利要求3所述的排气净化装置,所述第2催化剂层包含硫酸钡。

5.根据权利要求3所述的排气净化装置,所述第2催化剂层包含第2铑担载催化剂,所述第2铑担载催化剂是使第1二氧化铈-二氧化锆载体粒子担载Rh而得到的。

6.根据权利要求5所述的排气净化装置,所述第1铑担载催化剂的Rh量与所述第2铑担载催化剂的Rh量之比在10:90~90:10的范围。

7.根据权利要求3所述的排气净化装置,在所述第2催化剂层的下侧还具有1层或多层。

8.根据权利要求1或2所述的排气净化装置,所述第1催化剂层存在于基材上。

9.根据权利要求8所述的排气净化装置,在所述第1催化剂层与所述基材之间具有第2催化剂层。

10.根据权利要求8所述的排气净化装置,在所述第1催化剂层的下侧具有第2催化剂层,在所述第2催化剂层与所述基材之间具有1层或多层。

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