[发明专利]光学层叠体

说明书

本发明提供作为阻隔薄膜及偏光板发挥功能、且抑制了裂纹的产生的光学层叠体。本发明的光学层叠体依次具有：偏光件；基材；包含ZnO、Al及SiO₂的第1氧化物层；和由SiO₂构成的第2氧化物层，基材的第1氧化物层侧的表面的表面粗糙度Ra为0.30nm～50nm。在一个实施方式中，光学层叠体的透湿度为3.0×10^‑2g/m²/24hr以下。

技术领域

本发明涉及一种光学层叠体。更详细而言，本发明涉及可以作为阻隔薄膜及偏光板发挥功能的光学层叠体。

背景技术

以往，在图像显示装置(例如液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置)中使用阻隔薄膜。在这样的阻隔薄膜的开发中，作为制膜速度快、折射率低、具有良好的阻气性的阻隔薄膜，提出在Al-Zn-O(添加了铝的氧化锌)膜中添加了SiO₂的透明氧化物膜(薄膜)(专利文献1)。但是，该透明氧化物膜的耐化学药品性(例如耐酸性、耐碱性)极不充分。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-189657号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明是为了解决上述以往的课题而完成的发明，其目的在于提供作为阻隔薄膜及偏光板发挥功能、且抑制了裂纹的产生的光学层叠体。

用于解决问题的方案

本发明的光学层叠体依次具有：偏光件；基材；包含ZnO、Al及SiO₂的第1氧化物层；和由SiO₂构成的第2氧化物层，该基材的该第1氧化物层侧的表面的表面粗糙度Ra为0.30nm～50nm。

在一个实施方式中，上述光学层叠体在上述偏光件的至少一侧还具有保护层。

在一个实施方式中，上述第1氧化物层的厚度为10nm～100nm。

在一个实施方式中，上述第2氧化物层的厚度为10nm～100nm。

在一个实施方式中，上述光学层叠体的透湿度为3.0×10^-2g/m²/24hr以下。

在一个实施方式中，上述光学层叠体的阻气性为1.0×10^-7g/m²/24hr～0.5g/m²/24hr。

在一个实施方式中，上述光学层叠体的滴加盐酸或氢氧化钠溶液后的透湿度不足1.0×10^-1g/m²/24hr。

发明效果

根据本发明的实施方式，通过采用包含ZnO、Al及SiO₂的第1氧化物层与由SiO₂构成的第2氧化物层的层叠结构作为阻隔层，并进而层叠偏光件，从而可以实现具有优异的透湿性及阻气性、且具有优异的耐化学药品性、弯曲性及耐热性的光学层叠体。即，可以实现既可作为阻隔薄膜又可作为偏光板发挥优异功能的光学层叠体。进而，在本发明的实施方式中，通过将基材的第1氧化物层侧的表面的表面粗糙度Ra设为规定值以上，从而既可维持如上所述的作为阻隔薄膜及偏光板的优异特性，又可显著地抑制第1氧化物层和/或第2氧化物层中的裂纹的产生。

附图说明

图1为本发明的一个实施方式的光学层叠体的示意剖视图。

具体实施方式