[发明专利]包括清洁辊并且用于清洁制备电池单元的保护膜的设备

权利要求书

1.一种用于清洁保护膜的设备，所述保护膜在对电极和隔膜的层压件进行加热和压制以制备用于电池单元的电极组件的层压工艺期间贴附至所述层压件的外表面，所述设备包括：

馈送辊，所述馈送辊配置成提供所述保护膜；

至少一个引导辊，所述至少一个引导辊配置成引导从所述馈送辊提供的所述保护膜前进；

清洁辊，所述清洁辊位于所述馈送辊与卷绕辊之间并且配置成去除残留在从所述馈送辊提供的所述保护膜上的外来物质；和

所述卷绕辊，配置成卷绕已由所述清洁辊从其去除了外来物质的所述保护膜，

其中纳米薄膜形成在所述清洁辊的外表面上，以吸附和去除残留在所述保护膜上的所述外来物质，并且

其中所述纳米薄膜形成为使得具有小于0.5μm的粒径的颗粒被吸附。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述馈送辊、所述引导辊、所述卷绕辊和所述清洁辊定位成使得它们的旋转轴彼此平行。

3.根据权利要求1所述的设备，其中随着所述卷绕辊旋转，从所述馈送辊提供的所述保护膜通过所述清洁辊移动至所述卷绕辊。

4.根据权利要求1所述的设备，进一步包括传感器，所述传感器相对于所述保护膜的移动方向定位于所述清洁辊与所述卷绕辊之间并且配置成检查所述保护膜上的外来物质是否已去除。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述传感器包括：

光源部，所述光源部配置成将透过所述保护膜的光照射到所述保护膜上；和

监测器部，所述监测器部配置成感测透过所述保护膜的所述光，

其中所述光源部和所述监测器部定位成在一直线上并且所述保护膜介于所述光源部与所述监测器部之间，并且所述传感器配置为通过所述监测器部可视地检查所述保护膜上的所述外来物质是否已去除。

6.根据权利要求5所述的设备，

其中所述传感器进一步包括光强度感测部，所述光强度感测部配置成测量透过所述保护膜的所述光的光强度，并且

当由所述光强度感测部测量到的所述光强度小于预定值时，停止所述卷绕辊和所述馈送辊的操作。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述清洁辊形成为在所述保护膜的移动方向及其相反方向上是可移动的，并且当通过所述传感器确认外来物质尚未去除时，所述清洁辊在所述保护膜的移动方向及其相反方向上移动，以去除所述保护膜上的所述外来物质。

8.根据权利要求4所述的设备，其中，当所述传感器确认所述外来物质尚未去除时，所述保护膜随所述卷绕辊旋转而移动至所述卷绕辊，然后卷绕在所述卷绕辊上的所述保护膜随所述馈送辊在相反方向上旋转而解卷绕并移动至所述馈送辊。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述清洁辊包括第一清洁辊和第二清洁辊；

所述第一清洁辊和所述第二清洁辊的纳米薄膜形成为吸附具有不同尺寸的外来颗粒，并且所述第一清洁辊形成为比所述第二清洁辊吸附更大的外来颗粒；并且

所述第一清洁辊和所述第二清洁辊基于所述保护膜从所述馈送辊至所述卷绕辊的移动方向按顺序布置。

10.根据权利要求9所述的设备，其中形成在所述第一清洁辊上的所述纳米薄膜形成为使得具有1μm至2μm的粒径的颗粒被吸附，形成在所述第二清洁辊上的所述纳米薄膜形成为使得具有小于0.5μm的粒径的颗粒被吸附。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述清洁辊包括一对辊，所述一对辊在沿与介于所述一对辊之间的所述保护膜垂直的方向的直线上形成，并且当所述保护膜穿过所述一对辊时，去除残留在所述保护膜两侧上的所述外来物质。