[发明专利]多孔径成像设备、成像系统以及用于检测目标区域的方法

权利要求书

1.一种多孔径成像设备(11；1000；2000；3000；4000；4000’；5000；6000)，包括：

至少一个图像传感器(12；12a-h)；以及

并置光学通道(16a-h)的阵列(14)，其中每个光学通道(16a-d)包括用于将目标区域(26；72)的至少一个部分区域(74a-d)投影在所述图像传感器(12；12a-h)的图像传感器区域(58a-d)上的光学器件(64a-h)；

光束偏转装置(18)，用于使所述光学通道(16a-d)的光学路径(22a-d)在所述光束偏转装置(18)的光束偏转区域(1002a-c)中通过反射偏转；

其中所述光束偏转装置(18)形成为沿所述光学通道(16a-d)的阵列(14)的行延伸方向(z；146)布置的反射琢面(68a-d；68i)的阵列，并且其中向每个光学通道(16a-d)分配一个反射琢面(68a-d；68i)并且其中每个反射琢面包括至少一个光束偏转区域(1002a-c)；

其中杂散光抑制结构(1004a)被布置在第一反射琢面(68a)的第一光束偏转区域(1002a)与并置的第二反射琢面(68b)的第二光束偏转区域(1002b)之间，所述杂散光抑制结构被配置为减少杂散光在第一光束偏转区域(1002a)与第二光束偏转区域(1002b)之间的迁移。

2.根据权利要求1所述的多孔径成像设备，其中所述杂散光抑制结构(1004a-c)被布置在所述光束偏转装置(18)的主侧面(1008a-b)上。

3.根据权利要求1所述的多孔径成像设备，其中所述杂散光抑制结构(1004a-c)相对于第一反射琢面或第二反射琢面(68a-d；68i)的表面形貌升高。

4.根据权利要求1所述的多孔径成像设备，其中所述杂散光抑制结构(1004a-c)包括相对于第一反射琢面或第二反射琢面(68a-d；68i)的包括多边形链的表面形貌。

5.根据权利要求4所述的多孔径成像设备，其中所述多边形链包括在所述多孔径成像设备的操作期间实质上平行于所述多孔径成像设备的并置的至少部分透明的封盖(36a-b)而延伸的部分(1012a-b)，其中所述光束偏转装置(18)被配置为使所述光学通道(16a-d)偏转穿过所述至少部分透明的封盖(36a-b)并且其中所述至少部分透明的封盖(36a-b)形成所述多孔径成像设备的壳体部分。

6.根据权利要求5所述的多孔径成像设备，其中所述光束偏转装置(18)包括第一位置和第二位置，所述光束偏转装置(18)能够在第一位置与第二位置之间移动，其中所述光束偏转装置(18)被配置为在第一位置和在第二位置使每个光学通道(16a-d)的所述光学路径(17a-d)在不同方向(19a-b)上偏转；其中所述多边形链是被布置在所述光束偏转装置(18)的第一主侧面(1008a)上的第一多边形链，其中所述至少部分透明的封盖(36a)是被布置成面向第一主侧面(1008a)的第一至少部分透明的封盖，并且其中所述杂散光抑制结构(1004a)或另一杂散光抑制结构(1004b)的第二多边形链被布置在所述光束偏转装置(18)的第二主侧面(1008b)上，并且在第二位置平行于所述多孔径成像设备的并置的第二至少部分透明的封盖(36b)而延伸，其中所述光束偏转装置(18)被配置为在第二位置使所述光学通道(16a-d)偏转穿过第二至少部分透明的封盖(36b)，并且其中第二至少部分透明的封盖(36b)形成所述多孔径成像设备的壳体部分。

7.根据权利要求1所述的多孔径成像设备，其中所述杂散光抑制结构(1004a-c)沿着垂直于所述行延伸方向(z；146)的方向(1014)在所述光束偏转装置(18)的主侧面(1008a-b)上以所述光束偏转装置(18)的延伸的至少30％的程度延伸。

8.根据权利要求1所述的多孔径成像设备，其中所述杂散光抑制结构(1004a-c)形成为连续结构并且沿着垂直于所述行延伸方向(z；146)的方向所述光束偏转装置(18)的主侧面(1008a-b)上以所述光束偏转装置的延伸的至少95％的程度延伸。