[发明专利]用于嵌入式执行环境中的模型预测控制器的交互式调整的系统和方法在审
申请号: | 201780008908.9 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN108496119A | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | S.哈利霍尔;R.斯里尼瓦桑;M.马哈帕特拉;M.G.肯吉 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | G05B13/04 | 分类号: | G05B13/04;G05B23/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;陈岚 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模型预测控制器 存储器占用 处理设备 嵌入式 加载 工业过程控制系统 交互式调整 嵌入式平台 操作期间 关联 | ||
1.一种方法,包括:
接收(601)对与工业过程控制系统(100)的嵌入式执行平台(301)中的模型预测控制器(MPC)(106、114、122、130)相关联的处理设备(704)的计算速度的调整(221、223);
接收(603)对由处理设备在MPC的操作期间执行的计算所要求的存储器占用空间的调整(222);以及
将MPC加载(605)在嵌入式平台中,其中加载包括对计算速度和存储器占用空间的调整。
2.根据权利要求1所述的方法,其中对处理设备的计算速度的调整包括以下中的至少一个:
对针对动态控制计算要由处理设备执行的迭代的最大数目的调整(221);以及
对针对稳态计算要由处理设备执行的迭代的最大数目的调整(223)。
3.根据权利要求1所述的方法,其中从离线过程建模环境(303)接收对计算速度和存储器占用空间的调整。
4.根据权利要求3所述的方法,其中:
MPC是第一MPC;
方法还包括将第二MPC加载(607)在非嵌入式平台(302)中;
使用离线过程建模环境来执行第一MPC的加载和第二MPC的加载,以及
离线过程建模环境是被配置成将相同过程模型加载到嵌入式平台或者非嵌入式平台的单一集成环境。
5.根据权利要求4所述的方法,其中:
加载在嵌入式平台中的第一MPC是级别2 MPC;并且
加载在非嵌入式平台中的第二MPC是级别3 MPC。
6.根据权利要求4所述的方法,还包括:
提供(609)单一集成在线过程监视环境(304),所述单一集成在线过程监视环境(304)被配置成允许用户监视在嵌入式平台和非嵌入式平台二者中在运行时执行的MPC。
7.一种装置,包括:
至少一个接口(708),其被配置成与工业过程控制系统(100)的嵌入式执行平台中的模型预测控制器(MPC)(106、114、122、130)通信;以及
至少一个处理设备(704),其被配置成:
接收对与MPC相关联的第二处理设备(704)的计算速度的调整(221、223);
接收对由第二处理设备在MPC的操作期间执行的计算所要求的存储器占用空间的调整(222);以及
将MPC加载在嵌入式平台中,其中加载包括对计算速度和存储器占用空间的调整。
8.根据权利要求7所述的装置,其中:
对第二处理设备的计算速度的调整包括以下中的至少一个:
对针对动态控制计算要由处理设备执行的迭代的最大数目的调整(221);以及
对针对稳态计算要由处理设备执行的迭代的最大数目的调整(223);并且
所述至少一个处理设备被配置成从离线过程建模环境(303)接收对计算速度和存储器占用空间的调整。
9.根据权利要求8所述的装置,其中:
MPC是第一MPC;
所述至少一个处理设备还被配置成将第二MPC加载在非嵌入式平台(302)中;
离线过程建模环境被配置成促进第一MPC的加载和第二MPC的加载;并且
离线过程建模环境是被配置成将相同过程模型加载到嵌入式平台或非嵌入式平台的单一集成环境。
10.一种包含指令的非暂时性计算机可读介质,所述指令在由至少一个处理设备(704)执行时使所述至少一个处理设备:
接收(601)对与工业过程控制系统(100)的嵌入式执行平台(301)中的模型预测控制器(MPC)(106、114、122、130)相关联的第二处理设备(704)的计算速度的调整(221、223);
接收(603)对由第二处理设备在MPC的操作期间执行的计算所要求的存储器占用空间的调整(222);以及
将MPC加载(605)在嵌入式平台中,其中加载包括对计算速度和存储器占用空间的调整。
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