[发明专利]偏光板有效

专利信息
申请号: 201780009339.X 申请日: 2017-02-03
公开(公告)号: CN108603968B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 南星铉;洪敬奇;张影来;金宪;罗钧日;郑棕炫;李炳鲜;张应镇;朴振勇;朴德雨;金志映 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;郑毅
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏光
【权利要求书】:

1.一种偏光板,应用于对波长为550nm的光的反射率为12%或更大的显示面板,其中由以下式1计算的K1值在0.9至1.1的范围内:

[式1]

K1=R1(450)/R1(650)+0.044×exp(0.43×bs)

其中,bs是所述偏光板的单色且所述单色意指CIE Lab色空间中的b值,R1(450)是在所述偏光板位于对波长为550nm的光的反射率为23%的反射表面上的状态下测量的所述偏光板对波长为450nm的光的以%为单位的反射率,以及R1(650)是在所述偏光板位于对波长为550nm的光的反射率为23%的反射表面上的状态下测量的所述偏光板对波长为650nm的光的以%为单位的反射率,以及

所述偏光板还满足以下条件1至4中的至少一个条件:

条件1:CIE Lab色空间中的-a值为2或更小,

条件2:CIE Lab色空间中的b值为4或更小,

条件3:CIE Lab色空间中的b值与-a值之比,即-b/a,为2.5或更小,

条件4:CIE Lab色空间中的-bc值为0.05至40。

2.一种偏光板,应用于对波长为550nm的光的反射率为12%或更大的显示面板,其中由以下式2计算的K2值在0.9至1.1的范围内:

[式2]

K2=R2(450)/R2(650)+0.0026×exp(1.09×bs)

其中,bs是所述偏光板的单色且所述单色意指CIE Lab色空间中的b值,R2(450)是在所述偏光板位于对波长为550nm的光的反射率为15%的反射表面上的状态下测量的所述偏光板对波长为450nm的光的以%为单位的反射率,以及R2(650)是在所述偏光板位于对波长为550nm的光的反射率为15%的反射表面上的状态下测量的所述偏光板对波长为650nm的光的以%为单位的反射率,以及

所述偏光板还满足以下条件1至4中的至少一个条件:

条件1:CIE Lab色空间中的-a值为2或更小,

条件2:CIE Lab色空间中的b值为4或更小,

条件3:CIE Lab色空间中的b值与-a值之比,即-b/a,为2.5或更小,

条件4:CIE Lab色空间中的-bc值为0.05至40。

3.根据权利要求1或2所述的偏光板,其中所述偏光板对非偏振光的透射率在40%至45%的范围内。

4.根据权利要求1或2所述的偏光板,满足条件1至3中的至少两个条件。

5.根据权利要求1或2所述的偏光板,满足条件2,并且还满足条件1或3。

6.根据权利要求1或2所述的偏光板,满足条件3,并且还满足条件1或2。

7.根据权利要求1或2所述的偏光板,满足所有条件1至3。

8.根据权利要求1或2所述的偏光板,其中所述偏光板应用于对波长为550nm的光的反射率为12%或更大的液晶面板的观看侧。

9.根据权利要求1或2所述的偏光板,其中所述偏光板具有在一个方向上形成的光吸收轴,并且对形成与所述光吸收轴成-5度至5度范围内的角的线性偏振光的透射率为0.01%或更小。

10.根据权利要求1或2所述的偏光板,其中所述偏光板的偏振度为99.9%或更大。

11.根据权利要求1或2所述的偏光板,其中所述偏光板对具有在560nm至750nm范围内的任一波长的光的光阻挡率在5.1至6.0的范围内,所述光阻挡率意指吸光度。

12.根据权利要求1或2所述的偏光板,其中所述偏光板具有偏光元件,所述偏光元件包括基于PVA的膜和在所述基于PVA的膜上吸附并取向的各向异性吸收材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学,未经株式会社LG化学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780009339.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top