[发明专利]用于保持、旋转以及加热和/或冷却衬底的装置和方法

权利要求书

1.一种装置(1,1',1'')，用于保持、旋转以及加热和/或冷却衬底、尤其晶片，所述装置具有：

1) 转子(9)，所述转子具有：

a) 至少一个次级绕组(6s,6s',6s'')，

b) 衬底支架(2)，所述衬底支架带有衬底支架表面(2o)和用于固定所述衬底的固定元件(4)，

c) 转动轴(8)，所述转动轴用于使所述衬底支架(2)围绕旋转轴线(R)旋转，

d) 至少一个电加热器(3)和/或冷却器，所述加热器用于加热所述衬底支架表面(2o)，所述冷却器用于冷却所述衬底支架表面(2o)；

2) 定子(10)，所述定子具有：

a) 至少一个初级绕组(6p,6p',6p'')，

b) 环形基座(7)，其中，所述转子(9)的转动轴(8)至少部分地布置在所述基座(7)内部；

其中，所述装置(1,1',1'')如此构造，使得通过所述至少一个初级绕组(6p,6p',6p'')可以在所述至少一个次级绕组(6s,6s',6s'')中感应电流和/或电压，其中，通过在所述至少一个次级绕组(6s,6s',6s'')中感应的电流和/或电压可以如此运行所述至少一个加热器(3)和/或冷却器，使得可以加热和/或冷却所述衬底支架表面(2o)。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p,6p',6p'')布置在基座表面(7o,7i)处。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p,6p',6p'')布置在所述基座(7)内部。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p)和所述至少一个次级绕组(6s)构造为扁平线圈、优选地构造为螺旋线圈、更优选地构造为阿基米德螺旋线圈。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p)和所述至少一个次级绕组(6s)平行于彼此地布置。

6.根据权利要求4所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p)和所述至少一个次级绕组(6s)布置在平面(E)中和/或平行于平面(E)布置，其中，所述平面(E)垂直于所述旋转轴线(R)布置。

7.根据权利要求4所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p)布置在所述基座(7)的面向所述衬底支架(2)的基座表面(7o)处。

8.根据权利要求4所述的装置，其中，所述至少一个次级绕组(6s)布置在所述衬底支架(2)的面向所述基座(7)的背侧处。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p',6p'')和所述至少一个次级绕组(6s',6s'')构造为柱状线圈。

10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p')和所述至少一个次级绕组(6s')相对于所述旋转轴线(R)同心地布置。

11.根据权利要求9所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p')布置在所述基座(7)的面向所述转动轴(8)的基座内部面(7i)处，并且所述至少一个次级绕组(6s')布置在所述转动轴(8)的面向所述基座内部面(7i)的轴表面(8o)处。

12.根据权利要求9所述的装置，其中，所述至少一个初级绕组(6p'')和所述至少一个次级绕组(6s'')相对于所述旋转轴线(R)无中心地布置。

13.根据权利要求9所述的装置，其中，至少两个初级绕组(6p'')布置在所述基座(7)内部，并且至少两个次级绕组(6s'')布置在所述转动轴(8)内部。