[发明专利]层叠光学膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780012822.3 申请日: 2017-02-21
公开(公告)号: CN108700696B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 仲俊之;川上武志;安藤卓也 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B29C65/48;B32B27/36;B32B27/32;B32B27/28;B32B27/08;B32B27/06;B32B7/06;B32B7/12;B32B7/023
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 层叠 光学 制造 方法
【说明书】:

提供一种层叠光学膜的制造方法,其能够防止因光学膜彼此贴合所使用的粘接剂或粘合剂所导致的贴合辊污染。一种层叠光学膜的制造方法,其中,将第一光学膜2、粘接剂层5和第二光学膜3导入进行旋转的一对贴合辊7a、7b之间,将它们贴合,所述层叠光学膜的制造方法中,在贴合时,粘接剂层5的宽度WA为第一光学膜2的宽度W1以上,第一光学膜2在宽度方向上的位置处于粘接剂层5的存在宽度WA以内,第二光学膜3的宽度W2大于粘接剂层5的宽度WA,设置第二光学膜3的位置使其内包粘接剂层5的存在宽度WA,使具有比粘接剂层5的宽度WA更大宽度的第三光学膜6以内包粘接剂层5的宽度WA的方式介于第一光学膜2侧的贴合辊7a与第一光学膜2之间。

技术领域

本发明涉及层叠光学膜的制造方法。

背景技术

以往,已知使多张的光学膜夹着粘接剂层或粘合剂层通过一对贴合辊间由此进行压接的层叠光学膜的制造方法(例如参见专利文献1)。粘接剂层或粘合剂层通常通过将粘接剂或粘合剂涂布于层叠的光学膜的任一侧由此进行提供。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2014-172290号公报

发明内容

发明要解决的问题

在贴合时,粘接剂或粘合剂从光学膜的宽度方向的端部溢出时,在贴合辊上附着粘接剂或粘合剂而发生污染。并且,附着于贴合辊的粘接剂或粘合剂转移至后续的光学膜,在以卷状卷取层叠光学膜时有可能成为粘连的原因。

本发明的目的在于提供一种层叠光学膜的制造方法,其能够防止因光学膜彼此贴合所使用的粘接剂或粘合剂所导致的贴合辊污染。

用于解决问题的手段

本发明提供一种层叠光学膜的制造方法,其中,将第一光学膜、粘接剂层或粘合剂层、以及第二光学膜以在将一对贴合辊间连结的方向上依次排列的状态导入进行旋转的一对贴合辊之间,从而将第一光学膜与第二光学膜贴合,所述层叠光学膜的制造方法中,在贴合时,粘接剂层或粘合剂层的宽度为第一光学膜的宽度以上,第一光学膜在宽度方向上的位置处于粘接剂层或粘合剂层的存在宽度以内,第二光学膜的宽度大于粘接剂层或粘合剂层的宽度,设置第二光学膜的位置使其内包粘接剂层或粘合剂层的存在宽度,使具有比粘接剂层或粘合剂层的宽度更大宽度的第三光学膜以内包粘接剂层或粘合剂层的宽度的方式介于第一光学膜侧的贴合辊和第一光学膜之间。

根据该制造方法,在第一光学膜与第二光学膜的贴合时,由于比粘接剂层或粘合剂层更宽的第二光学膜或第三光学膜介于粘接剂层或粘合剂层与贴合辊之间,因而,能够防止因粘接剂或粘合剂所导致的贴合辊污染。

在该制造方法中,可以设为如下方案:第一光学膜侧的贴合辊的宽度小于第三光学膜的宽度,并且第一光学膜侧的贴合辊在宽度方向上的位置处于第三光学膜的存在宽度内。此时,进一步防止贴合辊被粘接剂或粘合剂所污染。

本发明在另一方案中提供一种层叠光学膜的制造方法,其中,将第一光学膜、粘接剂层或粘合剂层、以及第二光学膜以在将一对贴合辊间连结的方向上依次排列的状态导入进行旋转的一对贴合辊之间,从而将第一光学膜与第二光学膜贴合,所述层叠光学膜的制造方法中,在贴合时,粘接剂层或粘合剂层的宽度为第一光学膜的宽度以上,第一光学膜在宽度方向上的位置处于粘接剂层或粘合剂层的存在宽度以内,第二光学膜的宽度大于粘接剂层或粘合剂层的宽度,设置第二光学膜的位置使其内包粘接剂层或粘合剂层的存在宽度,第一光学膜侧的贴合辊的宽度小于第一光学膜的宽度,第一光学膜侧的贴合辊在宽度方向上的位置处于第一光学膜的存在宽度内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780012822.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top