[发明专利]透明导电性膜形成用组合物及透明导电性基板

说明书

本发明涉及一种透明导电性膜形成用组合物，其包含透明导电性粒子、粘合剂树脂和溶剂，上述透明导电性膜形成用组合物的固体成分浓度为20～50质量％，上述溶剂包含将乙酸丁酯的蒸发速度设为1时的相对蒸发速度为1以上的溶剂A，和上述相对蒸发速度小于1的溶剂B，上述溶剂A与上述溶剂B的质量比为溶剂A:溶剂B＝40:60～5:95，上述溶剂A与上述溶剂B都至少包含酮系溶剂。

技术领域

本发明涉及透明导电性膜形成用组合物以及使用该组合物而形成的透明导电性基板。

背景技术

以往，透明导电性膜例如通过将含锡氧化铟等透明导电性金属氧化物利用溅射、蒸镀等所谓干法堆积于基材上从而制造。使用了这样的干法的透明导电性膜的制造在真空条件下进行，因此需要昂贵的制造装置，此外，生产效率差，不适于大量生产。因此，作为代替上述干法的方法，进行了通过涂布包含透明导电性粒子的分散组合物而形成透明导电性膜的湿法的研究。

在透明导电性粒子中，氧化铟中含有锡的含锡氧化铟(ITO)粒子由于对于可见光的高透光性以及高导电性，因此一直被用作适合于要求静电防止、电磁波屏蔽的CRT画面、LCD画面等的材料。

此外，除了透明导电性膜的干法一直所使用的含锡氧化铟以外，将包含氧化锡、含锑氧化锡、氧化锌、含氟氧化锡等透明导电性粒子的分散组合物涂布于基材上而形成的涂布型透明导电性膜也已被实用化。

作为用于涂布型透明导电性膜的溶剂，专利文献1中提出了烃类、芳香族类、酮类、醇类、二醇类、二醇酯类、二醇醚类等。此外，作为设置了涂布型透明导电性膜的涂布型透明导电性片的制造方法，专利文献1中提出了，按照干燥涂膜中的残存溶剂量相对于干燥膜厚的比率进行规定，表面电阻值的变化率小，雾度小的涂布型透明导电性片，以及该涂布型透明导电性片的制造方法。

专利文献2中提出了，作为用于涂布型透明导电性膜的溶剂，限定为选自酮类、酯类中的至少1种，进一步关于溶剂，将乙酸丁酯的蒸发速度设为1时的相对蒸发速度为1以上的溶剂A与上述相对蒸发速度小于1的溶剂B以重量比计设为溶剂A:溶剂B＝95:5～70:30，且满足所限定的干燥条件，从而初始表面电阻值低，可以抑制上述表面电阻值经时上升，透明性优异的透明导电性片用组合物以及使用了该组合物的透明导电性片的制造方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-190713号公报

专利文献2：日本特开2016-207607号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，一般而言，在包含透明导电性粒子、粘合剂树脂和溶剂的涂布组合物中，对于专利文献1的实施例所记载的溶剂系(MEK/甲苯)而言，组合物的稳定性不充分，有时会因长期的保存而发生涂布组合物的粘度上升。此外，在使用这样的组合物来形成透明导电性片的情况下，具有表面电阻值的稳定性不充分，表面电阻值经时上升这样的问题。