[发明专利]层叠半透膜有效
申请号: | 201780013648.4 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN108697996B | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 德山尊大;小川贵史;富冈洋树 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | B01D69/12 | 分类号: | B01D69/12;B01D67/00;B01D69/10;B01D71/40;B01D71/56;B01D71/82;B32B27/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;李国卿 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层叠 半透膜 | ||
1.层叠半透膜,其具有半透层、和设置于所述半透层上的涂层,并且,所述层叠半透膜满足下述条件(A)、(B)及(C):
(A)在25℃、相对湿度97%的条件下测得的IR光谱、与在25℃、相对湿度3%的条件下测得的IR光谱的差光谱中,3700~2900cm-1间的最大峰的强度为0.08以上;
(B)所述差光谱的3700~2900cm-1间的峰顶波数为3400cm-1以上且3550cm-1以下;
(C)在通过对所述涂层照射X射线而进行的X射线光电子能谱测定中,N1s的峰在401eV以上具有极大值,
所述涂层含有共聚物Y,所述共聚物Y至少具有彼此不同的4种重复单元结构P1、P2、P3、P4并且经由侧链中含有的结构X4而相互交联,所述重复单元结构P1、P2、P3、P4为:在侧链中具有下述结构X1的重复单元结构P1、在侧链中具有下述结构X2的重复单元结构P2、在侧链中具有下述结构X3的重复单元结构P3、在侧链中具有下述结构X4的重复单元结构P4,
X1:
其中,R2、R3、R4各自独立地为选自可具有取代基的烷基、亚烷基、芳基、亚芳基中的基团,可以由R2、R3、R4中的任意两个形成环,
X2:带负电的基团,
X3:带正电的基团,
X4:氨基、羟基、或硫醇基,
其中,重复单元结构P2在侧链中不同时具有带正电的基团,并且,重复单元结构P3在侧链中不同时具有带负电的基团。
2.如权利要求1所述的层叠半透膜,其中,所述涂层侧的pH= 7 时的表面ZETA电位为-15mV~+10mV。
3.如权利要求1所述的层叠半透膜,其中,所述带负电的基团为选自下 述(III)的结构中的至少一种官能团,
4.如权利要求1~3中任一项所述的层叠半透膜,其中,所述带正电的基团为选自铵基、咪唑鎓基、及吡啶鎓基中的至少一种官能团。
5.如权利要求1所述的层叠半透膜,其中,交联结构由X4-Q-X4所示的结构形成,并且,Q由下述任一结构形成,
Q:
其中,R为烃基,n为0以上且5以下的整数。
6.如权利要求1~5中任一项所述的层叠半透膜,其中,所述涂层的厚度为50nm以上且500nm以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的层叠半透膜,其中,所述半透层具备微多孔性支承层、和设置于所述微多孔性支承层上的分离功能层,
所述分离功能层含有通过使多官能胺与多官能酰卤化物缩聚而形成的聚酰胺。
8.如权利要求1~6中任一项所述的层叠半透膜,其具备所述半透层、和形成于所述半透层上的所述涂层,
所述涂层含有通过将至少包含下述化合物(A)、(B)、(C)的3种以上单体进行聚合而形成的聚合物或所述聚合物的交联物,
(A)具有烯键式不饱和基团和所述结构X1的化合物,
(B)除所述化合物(A)以外的具有烯键式不饱和基团和所述结构X2的化合物,
(C)除所述化合物(A)、(B)以外的具有烯键式不饱和基团和所述结构X3的化合物,
其中,化合物(B)不同时具有带正电的基团,并且,化合物(C)不同时具有带负电的基团。
9.如权利要求8所述的层叠半透膜,其中,
所述涂层由通过将至少包含下述化合物(A)、(B)、(C)、(D)的4种以上单体进行聚合而形成的聚合物或所述聚合物的交联物形成,并且,所述交联物经由聚合物的侧链中含有的所述结构X4而形成,
(A)具有烯键式不饱和基团和所述结构X1的化合物,
(B)除所述化合物(A)以外的具有烯键式不饱和基团和所述结构X2的化合物,
(C)除所述化合物(A)、(B)以外的具有烯键式不饱和基团和所述结构X3的化合物,
(D)除所述化合物(A)、(B)、(C)以外的具有烯键式不饱和基团和所述结构X4的化合物。
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