[发明专利]被膜形成用组合物及其制造方法有效
申请号: | 201780014240.9 | 申请日: | 2017-03-27 |
公开(公告)号: | CN108698851B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 加藤拓;铃木正睦;村上夏美;饭岛大贵;古川智规;小山欣也 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | C01G23/047 | 分类号: | C01G23/047;C01G23/04;C09D183/02;C09D183/04;C09D185/00;G02B1/10;G02B3/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 孙丽梅;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 组合 及其 制造 方法 | ||
1.一种被膜形成用组合物,其包含(A)成分和(B)成分,
所述(A)成分是下述式(1)所示的至少1种水解性硅烷的水解缩合物,
R2aSi(OR1)4-a 式(1)
式中,R1为碳原子数1~6的烷基,R2为碳原子数1~18的烷基或碳原子数6~18的芳基,a为0~3的整数;
所述(B)成分是在具有2~100nm的一次粒径的改性金属氧化物胶体粒子(B3)的表面结合有两亲性有机硅化合物的无机微粒,所述改性金属氧化物胶体粒子(B3)以具有2~60nm的一次粒径的金属氧化物胶体粒子(B1)作为核,并对其表面用由具有1~4nm的一次粒径的金属氧化物胶体粒子构成的被覆物(B2)进行了被覆,所述两亲性有机硅化合物具有选自聚氧亚乙基、聚氧亚丙基和聚氧亚丁基中的1种以上聚(氧亚烷基)作为亲水性基、并具有选自碳原子数1~18的亚烷基或亚乙烯基中的1种以上基团作为疏水性基,
所述(B)成分的金属氧化物胶体粒子(B1)为选自Ti、Fe、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Sb、Ta、W、Pb、Bi和Ce中的至少1种金属的氧化物,
所述(B)成分的被覆物(B2)为选自Si、Al、Sn、Zr、Mo、Sb和W中的至少1种金属的氧化物。
2.根据权利要求1所述的被膜形成用组合物,所述式(1)中的R2为甲基、乙基、苯基、联苯基或菲基,a为1。
3.根据权利要求1或2所述的被膜形成用组合物,所述两亲性有机硅化合物是其亲水性基中的所述氧亚烷基的加成摩尔数为3~40摩尔的化合物。
4.根据权利要求1或2所述的被膜形成用组合物,所述(B)成分的改性金属氧化物胶体粒子(B3)的表面所结合的两亲性有机硅化合物相对于改性金属氧化物胶体粒子(B3)的全部金属氧化物以0.1~30质量%的质量比例结合。
5.一种被膜形成用组合物的制造方法,其包含将(A)成分与(B)成分进行混合的工序,
所述(A)成分是下述式(1)所示的至少1种水解性硅烷的水解缩合物,
R2aSi(OR1)4-a 式(1)
式中,R1为碳原子数1~6的烷基,R2为碳原子数1~18的烷基或碳原子数6~18的芳基,a为0~3的整数;
所述(B)成分是在具有2~100nm的一次粒径的改性金属氧化物胶体粒子(B3)的表面结合有两亲性有机硅化合物的无机微粒,所述改性金属氧化物胶体粒子(B3)以具有2~60nm的一次粒径的金属氧化物胶体粒子(B1)作为核,并对其表面用由具有1~4nm的一次粒径的金属氧化物胶体粒子构成的被覆物(B2)进行了被覆,所述两亲性有机硅化合物具有选自聚氧亚乙基、聚氧亚丙基或聚氧亚丁基中的1种以上聚(氧亚烷基)作为亲水性基、并具有选自碳原子数1~18的亚烷基或亚乙烯基中的1种以上基团作为疏水性基,
所述(B)成分的金属氧化物胶体粒子(B1)为选自Ti、Fe、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Sb、Ta、W、Pb、Bi和Ce中的至少1种金属的氧化物,
所述(B)成分的被覆物(B2)为选自Si、Al、Sn、Zr、Mo、Sb和W中的至少1种金属的氧化物。
6.根据权利要求5所述的被膜形成用组合物的制造方法,所述式(1)中的R2为甲基、乙基、苯基、联苯基或菲基,a为1。
7.根据权利要求5或6所述的被膜形成用组合物的制造方法,所述两亲性有机硅化合物为其亲水性基中的所述氧亚烷基的加成摩尔数为3~40摩尔的化合物。
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