[发明专利]新的锗硅酸盐组合物及其制备方法有效
申请号: | 201780015274.X | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN108698839B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 乔尔·E·施密特;马克·E·戴维斯;本·W·博尔;姜钟勋;谢丹 | 申请(专利权)人: | 加州理工学院;雪佛龙美国公司 |
主分类号: | B01J29/04 | 分类号: | B01J29/04;C01B33/26 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 高瑜;郑霞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅酸盐 组合 及其 制备 方法 | ||
1.一种结晶硅酸盐组合物,所述结晶硅酸盐组合物衍生自或能够衍生自前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐的至少一种转变,所述至少一种转变包括脱锗或拓扑重排,其中:
(a)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从3.8至5.4的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含具有在从25至无穷大的范围内的Si/Ge比率的CIT-15拓扑结构的硅酸盐;
(b)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从3.8至5.4的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含具有在从25至无穷大的范围内的Si/Ge比率的CIT-14拓扑结构的硅酸盐;
(c)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从4.5至10的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含具有在从25至250的范围内的Si/Ge比率的CIT-13拓扑结构的锗硅酸盐;
(d)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从3.8至5.4的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含具有在从3.8至5.4的范围内的Si/Ge比率的CIT-5拓扑结构的锗硅酸盐;
(e)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从3.8至5.4的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含具有在从30至200的范围内的Si/Ge比率的CIT-5拓扑结构的锗硅酸盐;
(f)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从3.8至5.4的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含CIT-5拓扑结构的锗硅酸盐,所述CIT-5拓扑结构的锗硅酸盐包含二氧化硅、氧化锗和M的至少一种氧化物,其中M是Al、B、Fe、Ga、Hf、Si、Sn、Ti、V、Zn、Zr,其中Si/M的比率在从25至250的范围内;或
(g)所述前体结晶微孔的CIT-13锗硅酸盐具有在从3.8至5.68的范围内的初始Si/Ge比率,并且所述结晶硅酸盐组合物包含被命名为CIT-13P、具有在从40至无穷大或从50至100的范围内的Si/Ge比率的页硅酸盐。
2.如权利要求1所述的结晶硅酸盐组合物,所述结晶硅酸盐组合物是呈现出在6.70±0.2度2-θ、7.34±0.2度2-θ、13.2±0.2度2-θ、18.74±0.2度2-θ、19.4±0.2度2-θ、19.98±0.2度2-θ、21.54±0.2度2-θ、22.44±0.2度2-θ、24.00±0.2度2-θ、27.17±0.2度2-θ处的特征峰中的至少五个特征峰的粉末X射线衍射(PXRD)图案的CIT-13拓扑结构的微孔的锗硅酸盐。
3.如权利要求1所述的结晶硅酸盐组合物,所述结晶硅酸盐组合物是具有由10元环和14元环限定的孔以及在从25至250的范围内的Si/Ge比率的CIT-13拓扑结构的微孔的锗硅酸盐。
4.如权利要求3所述的结晶硅酸盐组合物,还以在从25至250的范围内的Si/M比率包含金属或类金属M的至少一种晶格氧化物,其中M是铝、硼、镓、铪、铁、硅、锡、钛、钒、锌或锆。
5.如权利要求4所述的结晶硅酸盐组合物,其中所述结晶硅酸盐组合物是CIT-13拓扑结构的微孔的铝硅酸盐。
6.如权利要求5所述的结晶硅酸盐组合物,其中所述CIT-13拓扑结构的微孔的铝硅酸盐呈现出相对于1M硝酸铝水溶液,具有在54ppm处的特征化学位移的27Al MAS NMR光谱。
7.如权利要求5或6所述的结晶硅酸盐组合物,其中所述CIT-13拓扑结构的微孔的铝硅酸盐呈现出相对于四甲基硅烷(TMS),具有在-110ppm和-115ppm处的特征化学位移的29SiMAS NMR光谱。
8.如权利要求3所述的结晶硅酸盐组合物,还包含在其微孔中的金属阳离子盐、过渡金属、过渡金属氧化物或过渡金属盐。
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