[发明专利]还原型谷胱甘肽的晶体及其制造方法

说明书

本发明的目的在于提供减少了杂质、特别是L‑半胱氨酰基‑L‑甘氨酸的含量的还原型谷胱甘肽的晶体及其制造方法。本发明涉及一种还原型谷胱甘肽的晶体，其中，在高效液相色谱(HPLC)分析中，相对于还原型谷胱甘肽的峰面积100，L‑半胱氨酰基‑L‑甘氨酸的峰面积为0.02以下。

技术领域

本发明涉及减少了杂质、特别是L-半胱氨酰基-L-甘氨酸的含量的还原型谷胱甘肽的晶体及其制造方法。

背景技术

谷胱甘肽(γ-L-谷氨酰基-L-半胱氨酰基-L-甘氨酸)是生物中广泛存在的还原性化合物，已知在肝脏中具有解毒作用。因此，谷胱甘肽被广泛用作药品、健康食品以及化妆品等的产品、原料或中间体。

作为谷胱甘肽的制造方法，已知有使用酵母等微生物的发酵法、以及酶法(非专利文献1)等，但存在生成具有类似结构的类似杂质作为副产物的问题。

作为谷胱甘肽的纯化法，已知有与氧化亚铜形成铜盐的方法、吸附于强酸性离子交换树脂并利用酸或碱洗脱的方法(专利文献1～3)、从弱碱性阴离子交换树脂中通过的方法(专利文献4)，但谷胱甘肽因加热、氧化、pH变动等容易发生反应或分解而生成大量杂质。

这些杂质中，已知特别是L-半胱氨酰基-L-甘氨酸会产生导致各种各样疾病的自由基(非专利文献2、3)。另外，在日本厚生劳动省的关于药品原药的杂质的指南中，根据原药的最大一天给药量，要求将谷胱甘肽中所含的各杂质减少至最小0.05％以下。

如此，对于作为药品、食品原料的谷胱甘肽而言，从安全性的方面出发，强烈期望减少杂质。作为谷胱甘肽的纯化法，在专利文献5中公开了除去半胱氨酸、γ-谷氨酰基半胱氨酸这样的特定杂质的方法。但是，迄今为止，对于除去L-半胱氨酰基-L-甘氨酸的方法还没有报道。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特公昭44-239号公报

专利文献2：日本特公昭45-4755号公报

专利文献3：日本特公昭46-2838号公报

专利文献4：日本特公昭45-27797号公报

专利文献5：日本特开昭61-282397号公报

非专利文献

非专利文献1：Appl.Microbiol.Biotechnol.，66，233(2004)

非专利文献2：J Investig Med.，Vol 47，No.3，151-160(1999)

非专利文献3：Bio Factors.，17，187-198(2003)

发明内容

发明所要解决的问题

如上所述，在现有方法中，难以减少L-半胱氨酰基-L-甘氨酸。因此，本发明的目的在于提供减少了杂质、特别是L-半胱氨酰基-L-甘氨酸的含量的还原型谷胱甘肽的晶体及其制造方法。

用于解决问题的方法

本发明涉及下述(1)～(7)。

(1)一种还原型谷胱甘肽的晶体，其中，在高效液相色谱(HPLC)分析中，相对于还原型谷胱甘肽的峰面积100，L-半胱氨酰基-L-甘氨酸的峰面积为0.02以下。

(2)如(1)所述的还原型谷胱甘肽的晶体，其中，在HPLC分析中，相对于还原型谷胱甘肽的峰面积100，氧化型谷胱甘肽的峰面积为0.7以下。

(3)如(1)或(2)所述的还原型谷胱甘肽的晶体，其中，在HPLC分析中，相对于还原型谷胱甘肽的峰面积100，其它的峰的总面积为1.0以下。