[发明专利]含氟化合物的制造方法有效
申请号: | 201780016314.2 | 申请日: | 2017-03-08 |
公开(公告)号: | CN108834409B | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 松浦诚;山本明典;岸川洋介;柳日馨;福山高英;隅野修平 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社;公立大学法人大阪 |
主分类号: | C07C17/275 | 分类号: | C07C17/275;C07C19/08;C07C22/08;C07C41/30;C07C43/174;C07C67/343;C07C69/24;C07C69/608;C07C69/612;C07C69/675;C07B37/02;C07B61/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;狄茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氟化 制造 方法 | ||
1.式(1)所示的化合物的制造方法,其特征在于:
包括使式(2)所示的化合物在还原剂的存在下、且在光照射下与式(3)所示的化合物反应的工序A,所述还原剂为式(4)所示的化合物,工序A的反应在光氧化还原催化剂和/或胺的存在下实施,
式(1)中,
R1表示烷基、氟代烷基或芳香族基,
RX表示氢原子或氟原子,且
R2a、R2b、R2c和R2d相同或不同,表示-Y-R21或-N(-R22)2,或者R2b与R2c可以连结而形成价键,
Y表示价键、氧原子或硫原子,
R21表示氢原子或有机基团,
R22在每次出现时相同或不同,表示氢原子或有机基团,
式(2)中,X表示离去基团,其它符号表示与上述相同的意义,
式(3)中的符号表示与上述相同的意义,
式(4)中,R3a、R3b、R3c和R3d相同或不同,表示烷基。
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:
R2a为烷基或芳基,且R2b、R2c和R2d为氢原子。
3.如权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于:
X为溴原子。
4.如权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于:
工序A的反应在光氧化还原催化剂的存在下实施。
5.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
所述催化剂为选自过渡金属配位化合物和有机色素化合物中的1种以上。
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