[发明专利]激光源，特别是用于工业过程的激光源

权利要求书

1.一种激光源，特别是供工业过程中使用的激光源，包括：

- 激光射束生成单元(2)，包括用于生成多个激光射束的多个激光二极管(201、202)，

- 光放大单元(6)，包括多个放大器模块(60)，所述放大器模块(60)配置成采用由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束来泵送，并且发射相对由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束具有更高射束质量和更低功率值的激光射束，以及

- 激光射束光切换和寻址单元(4)，插入在所述生成单元(2)与所述光放大单元(6)之间，以用于对由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束进行切换和寻址，所述光切换和寻址单元(4)包括：

- 多个入口(40)，用于接收由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束，

- 第一光线路(44)，用于朝向所述激光源(1)的第一出口(U1)转发从由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束所得到的单激光射束，

- 多个第二光线路(45)，用于朝向所述光放大单元(6)的所述放大器模块(60)转发由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束，所述放大器模块(60)具有连接到光线路(64)的相应出口，所述光线路(64)全部朝向所述激光源(1)的第二出口(U2)会聚，以及

- 光路选择器装置(43)，用于有选择地朝向以下各项定向由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束：

- 所述第一光线路(44)，以便在所述激光源(1)的所述第一出口(U1)处生成具有相对更高功率和相对更低质量的单激光射束的发射，

或者朝向

- 所述第二光线路(45)，并且经过所述放大器模块(60)，一直到所述激光源(1)的所述第二出口(U2)，以便在所述激光源(1)的所述第二出口(U2)处生成具有相对更低功率和相对更高质量的单激光射束的发射，

其中所述二极管(201、202)还配置成发射彼此具有不同波长的激光射束，以及

其中所述选择器装置(43)具有第一操作位置和第二操作位置，当处于所述第一操作位置，所述选择器装置(43)朝向所述第二光线路(45)转发由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束，当处于所述第二操作位置，在其中由所述二极管所发射的所述射束彼此至少部分重叠的条件下，使从所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束会聚到单射束中。

2.如权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述选择器装置(43)包括一系列反射镜(431、432)，所述反射镜(431、432)沿所述第一光线路(44)的方向对齐，并且在第一位置与第二位置之间可共同活动，当处于所述第一位置，所述反射镜(431、432)拦截由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束，当处于所述第二位置，所述反射镜不拦截所述激光射束，使得当处于所述第二位置，所述激光射束能够朝向所述第二光线路(45)并且朝向所述放大器模块(60)前进，以及

其特征在于，当处于所述第一位置，所述反射镜(431)的第一个以所述第一光线路(44)的所述方向并且经过另外的反射镜(432)来反射所述激光射束中的一个，并且其特征在于，其余反射镜(432)的每个布置成反射由相应二极管所发射并且具有相应波长的所述激光射束，并且对于由所述系列反射镜的其他反射镜(431)所定向经过它的具有其他波长的激光射束改为是可穿透的。

3.如权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述选择器装置(43)包括衍射光栅，其在第一位置与第二位置之间可活动，当处于所述第一位置，使由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束会聚，当处于所述第二位置，所述衍射光栅不拦截所述激光射束，使得当处于所述第二位置，所述激光射束能够朝向所述第二光线路(45)并且朝向所述放大器模块(60)前进，以及

其特征在于，当处于所述第一位置，所述激光射束以所述第一光线路(44)的方向进行衍射。

4.如权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述放大器模块(60)的每个包括至少一个激活光纤(61)，所述激活光纤(61)包括配置成放大进入到所述放大器模块(60)中的所述激光射束的激活材料。