[发明专利]使基底通过负压夹紧的衬托器以及用于外延沉积的反应器

权利要求书

1.一种用于外延沉积的反应器的衬托器，包括盘形部分(11、12)，所述盘形部分(11、12)适于水平放置并且在顶部处具有圆柱形的至少一个袋(200)，所述袋(200)具有底部，待经受外延沉积工艺的基底(100)放置在所述袋(200)处，

其中流体地连接到吸气系统(300)的多个导管(13)在所述袋(200)的所述底部上开口，

由此当基底(100)被放置在所述袋(200)的所述底部上并且所述吸气系统(300)处于工作状态时，所述基底(100)保持附着到所述袋(200)的所述底部，

其中所述盘形部分由下部主体(11)和上部主体(12)组成，

其中所述上部主体(12)在上方设置有所述至少一个袋(200)，

其中所述多个导管(13)仅竖直地穿过所述上部主体(12)，

其中所述多个导管(13)流体地连接到单个圆柱形的集气室(14)，所述集气室(14)在所述袋(200)正下方位于所述下部主体(11)和所述上部主体(12)之间，并且所述集气室(14)流体地连接到所述吸气系统(300)，

其中所述下部主体(11)具有用于将所述集气室(14)流体地连接到所述吸气系统(300)的一个或更多个导管，

由此当基底(100)被放置在所述袋(200)的所述底部上并且所述吸气系统(300)处于工作状态时，所述下部主体(11)和所述上部主体(12)由于所述集气室(14)中的减压而保持结合。

2.根据权利要求1所述的衬托器，包括在所述集气室(14)内的多于一个的间隔物，所述多于一个的间隔物适于防止所述集气室由于吸气而变形。

3.根据权利要求1所述的衬托器，其中所述下部主体(11)和/或所述上部主体(12)具有凹进部和/或突出部，所述凹进部和/或突出部适于允许通过所述反应器的操纵系统的工具来操纵所述上部主体。

4.根据权利要求2所述的衬托器，其中所述下部主体(11)和/或所述上部主体(12)具有凹进部和/或突出部，所述凹进部和/或突出部适于允许通过所述反应器的操纵系统的工具来操纵所述上部主体。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的衬托器，其中所述集气室(14)仅在所述下部主体(11)内形成。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的衬托器，其中所述底部是平坦的。

7.根据权利要求5所述的衬托器，其中所述底部是平坦的。

8.根据权利要求1-4和7中任一项所述的衬托器，其中存在导管(13)的多个口部，并且所述多个口部均匀地分布在所述袋(200)的所述底部上。

9.根据权利要求5所述的衬托器，其中存在导管(13)的多个口部，并且所述多个口部均匀地分布在所述袋(200)的所述底部上。

10.根据权利要求6所述的衬托器，其中存在导管(13)的多个口部，并且所述多个口部均匀地分布在所述袋(200)的所述底部上。

11.根据权利要求1-4、7和9-10中任一项所述的衬托器，其中所述集气室(14)具有对应于所述袋(200)的水平延伸部。

12.根据权利要求5所述的衬托器，其中所述集气室(14)具有对应于所述袋(200)的水平延伸部。

13.根据权利要求6所述的衬托器，其中所述集气室(14)具有对应于所述袋(200)的水平延伸部。

14.根据权利要求8所述的衬托器，其中所述集气室(14)具有对应于所述袋(200)的水平延伸部。