[发明专利]图案化设备冷却系统以及热调节图案化设备的方法有效
申请号: | 201780019458.3 | 申请日: | 2017-02-16 |
公开(公告)号: | CN108885406B | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | H·E·塞克利;G·纳基伯格鲁;F·J·J·范博克斯特尔;J-P·X·范达梅;R·J·F·范哈伦 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;张昊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 设备 冷却系统 以及 调节 方法 | ||
1.一种图案化设备冷却系统,用于热调节光刻装置的图案化设备,其中所述图案化设备在使用中被曝光辐射所照射,其中所述图案化设备冷却系统包括:
热调节器,被配置为热调节所述图案化设备;以及
控制器,被配置为根据被所述图案化设备吸收的所述曝光辐射的量来控制所述热调节器,以至少:
热调节所述图案化设备以用于衬底堆叠的第一层的曝光,并且
热调节所述图案化设备以用于所述衬底堆叠的第二层的曝光,
其中所述热调节被控制为使得所述图案化设备用于所述第一层的曝光的温度的变化匹配于所述图案化设备用于所述第二层的曝光的温度的变化。
2.根据权利要求1所述的图案化设备冷却系统,其中所述控制器被配置为根据以下项中的至少一项来控制所述热调节器:
每单位时间入射到用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备上的所述曝光辐射的量;
入射到用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备上的所述曝光辐射中的、由用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备吸收的比例;
通过所述曝光辐射扫描用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备的扫描速度;以及
曝光路径的长度,用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备由所述曝光辐射沿着所述曝光路径进行扫描。
3.根据权利要求1所述的图案化设备冷却系统,其中所述热调节器包括喷嘴,所述喷嘴被配置为向用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备提供作为热调节流的气体,并且其中所述控制器被配置为控制以下项中的至少一项:
由所述热调节器提供的所述气体的温度;以及
由所述热调节器提供的所述气体的流率。
4.根据权利要求1或2或3所述的图案化设备冷却系统,还包括位于所述图案化设备上方的清洗板。
5.根据权利要求4所述的图案化设备冷却系统,还包括抽气机,所述抽气机形成在清洗板中,并且所述抽气机被配置为抽取所述图案化设备上方的气体流。
6.一种热调节光刻装置的图案化设备的方法,所述图案化设备在使用中被曝光辐射所照射,所述方法包括:
根据被所述图案化设备吸收的所述曝光辐射的量来热调节所述图案化设备以用于衬底堆叠的第一层的曝光;以及
根据被所述图案化设备吸收的所述曝光辐射的量来热调节所述图案化设备以用于所述衬底堆叠的第二层的曝光,
其中所述热调节被控制为使得所述图案化设备用于所述第一层的曝光的温度的变化匹配于所述图案化设备用于所述第二层的曝光的温度的变化。
7.根据权利要求6所述的方法,包括:根据至少一个物理量来热调节用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备,所述至少一个物理量表示以下项中的至少一项:
每单位时间入射到用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备上的所述曝光辐射的量;
入射到用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备上的所述曝光辐射中的、由用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备吸收的比例;
通过所述曝光辐射扫描用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备的扫描速度;以及
曝光路径的长度,用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备由所述曝光辐射沿着所述曝光路径进行扫描。
8.根据权利要求6所述的方法,还包括:
向用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备提供作为热调节流的气体;以及
控制以下项中的至少一项:
向用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备提供的所述气体的温度;以及
向用于所述第一层的曝光和/或用于所述第二层的曝光的所述图案化设备提供的所述气体的流率。
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