[发明专利]多层阻挡膜

说明书

本发明公开了一种阻挡膜。该阻挡膜可以包括基材、设置在该基材的一侧上的无机层、以及设置在该无机层的一侧上的有机逐层结构，其中该有机逐层结构包括阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层。

背景技术

某些可用于制备发光装置的材料诸如有机发光二极管(OLED)和量子点，在暴露于空气和湿气时会经历氧化损伤，氧化损伤通常导致发光损耗。虽然已知阻挡层的制备有效地防止空气和湿气的渗透，但是例如阻挡层的无机氧化物层内的针孔缺陷可导致在掺入敏感材料的聚合物基质内形成“暗点”缺陷。

发明内容

本公开涉及形成具有高的湿气和氧气抗性的阻挡膜。此类制品特别可用于制备装置，特别是发光装置，并且本公开描述了用于组装发光装置的方法。例如，湿气敏感的发光材料可以是设置在基体内的量子点材料，或是包括OLED结构的膜构造。本公开描述了可如何通过利用逐层沉积构建的结构有效地支持无机氧化物层的阻挡性能。

在第一方面，提供了一种阻挡膜。该阻挡膜可以包括基材、设置在该基材的一侧上的无机层、以及设置在该无机层的一侧上的有机逐层结构，其中该有机逐层结构包括阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层。

在另一方面，提供了一种装置。该装置可以包括发光层和本公开的阻挡膜。

在另一方面，提供了一种方法。该方法可以包括：(a)将无机材料层沉积在基材上，(b)在所述无机材料层上由水溶液沉积阳离子聚电解质层；(c)冲洗和/或干燥该阳离子聚电解质层；(d)在所述阳离子聚电解质层上由水溶液沉积阴离子聚电解质层；(e)冲洗和/或干燥该阴离子聚电解质层；以及(f)重复步骤(b)-(e)，直到形成交替的阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层的逐层结构。

以上发明内容并非旨在描述本公开的每个公开的实施方案或每一种实施方式。以下附图和具体实施方式更具体地说明示例性实施方案。

附图说明

在整个说明书中均参考附图，其中类似的附图标号表示类似的元件，并且其中：

图1示出了阻挡膜的示意性剖视图；

图2示出了逐层结构的示意性剖视图。

图3示出了装置的示意性剖视图；

图4示出了用于形成装置的工艺；以及

图5示出了根据一个实施方案的装置的示意性剖视图。

图未必按照比例绘制。图中使用的相似数字指代相似的部件。然而，应当理解，在给定图中使用数字指代部件不旨在限制另一图中用相同数字标记的部件。

具体实施方式

本公开提供了阻挡膜的构造、装置特别是发光装置的构造、以及用于制造阻挡膜的方法。发光装置包括至少一个阻挡膜，该阻挡膜包括使用逐层沉积构建的层。例如，氧气和湿气敏感的发光材料可以是设置在膜中的量子点材料，或是包括OLED结构的膜构造。在一个具体实施方案中，发光装置包括高光学透射率阻挡膜、包含量子点的基体的高阻挡性能、以及基体对阻挡膜的高粘附力，该粘附力针对在转换和产品使用期间的耐久性。在一个具体实施方案中，所制备的阻挡膜可用于粘结至其他材料，诸如聚合物热熔融材料、压敏粘合剂、硬质涂层等等。

在整个说明书和权利要求书中使用某些术语，虽然大部分为人们所熟知，但仍可需要作出一些解释。应当理解，如本文所用：

关于单体的术语“(甲基)丙烯酸酯”是指作为醇与丙烯酸或甲基丙烯酸，例如丙烯酸或甲基丙烯酸的反应产物形成的乙烯基官能化的烷基酯。

术语“(共)聚物”是指均聚物或共聚物。

术语“均聚物”是指当在宏观尺度下观察时仅表现出单相物质。