[发明专利]包括半导体加热器的气溶胶生成装置有效
申请号: | 201780020817.7 | 申请日: | 2017-03-30 |
公开(公告)号: | CN109069775B | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | R·N·巴蒂斯塔 | 申请(专利权)人: | 菲利普莫里斯生产公司 |
主分类号: | A61M15/06 | 分类号: | A61M15/06;A24F40/20;A24F40/40;A24F40/46;A24F40/50;A24F40/51;A61M11/04;A61M15/00;B05B11/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 白皎 |
地址: | 瑞士纳*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 半导体 加热器 气溶胶 生成 装置 | ||
1.一种气溶胶生成装置,包括:
电源;
腔,其用于收纳气溶胶生成制品;
多个半导体加热器,其定位于所述腔内,每个半导体加热器包括衬底层和提供于所述衬底层上的加热层,其中所述加热层是连续层;
至少一个半导体气体传感器,其中所述半导体加热器中的至少一个的所述加热层能够操作为半导体气体传感器,使得所述加热层是组合式加热与气体感测层;以及
控制器,其配置成控制从所述电源到所述半导体加热器中的每一个的电力供应。
2.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置,其中所述控制器配置成测量所述组合式加热与气体感测层的电阻以确定所述腔内至少一种气体的量。
3.根据权利要求2所述的气溶胶生成装置,其中所述控制器配置成同时:
控制从所述电源到所述组合式加热与气体感测层的电力供应以加热所述组合式加热与气体感测层;以及
测量所述组合式加热与气体感测层的所述电阻以确定所述腔内的所述至少一种气体的量。
4.根据权利要求3所述的气溶胶生成装置,其中所述控制器配置成响应于所确定的所述腔内的所述至少一种气体的所述量而控制对所述组合式加热与气体感测层的所述电力供应。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其包括共同衬底层,且其中所述多个半导体加热器的所述加热层彼此间隔开且提供于所述共同衬底层上。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其中每个半导体加热器的所述加热层具有凸多边形形状。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其中所述多个半导体加热器中的每一个提供于所述腔的内表面上。
8.根据权利要求7所述的气溶胶生成装置,其中所述腔包括平面壁,且其中所述多个半导体加热器提供于所述平面壁上。
9.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其中所述半导体加热器中的每一个是平面的。
10.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其中所述半导体加热器中的每一个延伸低于7平方毫米的总面积。
11.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其中所述至少一个半导体气体传感器包括对所述腔内的不同气体敏感的至少两个半导体气体传感器。
12.根据权利要求1-4中任一项所述的气溶胶生成装置,其中所述控制器配置成循序地控制从所述电源到所述半导体加热器中的每一个的所述电力供应。
13.一种气溶胶生成装置,包括:
电源;
腔,其用于收纳气溶胶生成制品;
多个半导体加热器,其定位于所述腔内,每个半导体加热器包括衬底层和提供于所述衬底层上的加热层,其中所述加热层是连续层;
至少一个半导体气体传感器,其中所述至少一个半导体气体传感器包括位于气体传感器加热器上的半导体气体传感器,所述气体传感器加热器是所述多个半导体加热器中的一个;以及
控制器,其配置成控制从所述电源到所述半导体加热器中的每一个的电力供应。
14.根据权利要求13所述的气溶胶生成装置,其中所述控制器配置成同时:
控制从所述电源到所述气体传感器加热器的电力供应以加热所述半导体气体传感器;以及
测量所述半导体气体传感器的电阻以确定所述腔内至少一种气体的量。
15.根据权利要求14所述的气溶胶生成装置,其中所述控制器配置成响应于所确定的所述腔内所述至少一种气体的所述量而控制对所述气体传感器加热器的所述电力供应。
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