[发明专利]处理液、其制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种处理液，其含有：

1种或2种以上的满足下述条件(a)的化合物(A)；

1种或2种以上的满足下述条件(b)的化合物(B)；及

1种或2种以上的选自Al化合物及NOx化合物的化合物(C)，

所述处理液为预湿液、显影液、冲洗液或剥离液，

化合物(A)在所述处理液中的含有率的合计为70.0质量％～99.9999999质量％，化合物(B)在所述处理液中的含有率的合计为10^-10质量％～0.1质量％，

所述处理液中所含的1种或2种以上的化合物(C)各自的含有率为0.01质量ppt～100质量ppb，

所述处理液还含有Na、Ca及Fe，各原子的含有率为0.01质量ppt～1000质量ppb，

所述处理液的通过SNP-ICP-MS法所测定的金属粒子的合计的含有率为0.01质量ppt～100质量ppb，

下述式I所表示的化合物(B)与化合物(C)的比率P为10³～10^-6，

下述式II所表示的化合物(A)与化合物(B)的比率Q为10⁵～10⁹，

条件(a)：是选自酰胺化合物、酰亚胺化合物及亚砜化合物，且所述处理液中的含有率为5.0质量％～99.9999999质量％的化合物；

条件(b)：是选自酰胺化合物、酰亚胺化合物及亚砜化合物，且所述处理液中的含有率为10^-11质量％～0.1质量％的化合物，

P＝[化合物(C)的总质量]/[化合物(B)的总质量] 式I

Q＝[化合物(A)的总质量]/[化合物(B)的总质量] 式II。

2.根据权利要求1所述的处理液，其中，

通过SNP-ICP-MS法所测定的金属粒子的合计的含有率为1质量ppt～100质量ppt。

3.根据权利要求1所述的处理液，其中，

通过SNP-ICP-MS法所测定的金属粒子的合计的含有率为1质量ppt～30质量ppt。

4.根据权利要求1所述的处理液，其中，

通过SNP-ICP-MS法所测定的金属粒子的合计的含有率为3质量ppt～10质量ppt。

5.一种处理液，其含有权利要求1至4中任一项所述的处理液的至少1种和选自由丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮及乙酸丁酯组成的组中的有机溶剂的至少1种。

6.一种处理液的制造方法，其是权利要求1至5中任一项所述的处理液的制造方法，所述制造方法包括如下：

使1种或2种以上的原料在催化剂的存在下反应来合成化合物(A)，获得含有化合物(A)的粗溶液；及

将所述粗溶液提纯。

7.一种图案形成方法，其包括：

将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的工序；

对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的工序；及

使用权利要求1至5中任一项所述的处理液处理所述基板或所述感光化射线性或感放射线性膜的工序。

8.根据权利要求7所述的图案形成方法，其作为使用所述处理液处理所述基板或所述感光化射线性或感放射线性膜的工序，至少包括将所述处理液用作显影液来显影所述感光化射线性或感放射线性膜的工序。

9.根据权利要求7所述的图案形成方法，其作为使用所述处理液处理所述基板或所述感光化射线性或感放射线性膜的工序，至少包括将所述处理液用作冲洗液来清洗所述感光化射线性或感放射线性膜的工序。

10.根据权利要求7所述的图案形成方法，其作为使用所述处理液处理所述基板或所述感光化射线性或感放射线性膜的工序，至少包括将所述处理液用作预湿液来处理所述基板的工序。