[发明专利]图案描绘装置

权利要求书

1.一种图案描绘装置，其一面根据图案信息对来自第1光源装置的光束进行强度调变，一面将上述光束投射至基板上并进行相对扫描，借此于上述基板上描绘图案，且具备：

第2光源装置，其射出波长与来自上述第1光源装置的上述光束不同的测量光；

描绘单元，其具有光束扫描部及反射光检测部，所述光束扫描部包含使来自上述第1光源装置的上述光束及来自上述第2光源装置的上述测量光的两者在可变换角度的反射面偏向，并使上述光束及上述测量光投射于上述基板上一维地进行扫描的偏向构件与扫描用透镜系统，所述反射光检测部透过上述光束扫描部的上述偏向构件的上述反射面而对来自上述扫描用透镜系统的上述测量光被投射至上述基板时产生的反射光进行光电检测；及

测量部，其根据自上述反射光检测部输出的检测信号，测量以既定材料预先形成于上述基板上的第1图案的、在上述基板上的位置及形状的至少一者相关的信息；

通过上述描绘单元在上述基板上描绘新的第2图案时，利用由上述测量部所测量出的上述信息修正上述第2图案的描绘状态。

2.根据权利要求1所述的图案描绘装置，其

进而具备对准系统，所述对准系统检测以与上述基板上所形成的上述第1图案固定的位置关系形成于上述基板上的对准用标记；

该对准系统根据上述标记的检测位置，于上述光束的扫描所进行的上述第2图案的描绘之前推断应重新描绘的上述第2图案与上述第1图案的相对的位置误差。

3.根据权利要求2所述的图案描绘装置，其

进而具备光束强度调变部，所述光束强度调变部以于进行上述光束扫描部的从上述扫描用透镜系统投射至上述基板的上述光束所进行的扫描的期间，于形成有上述第1图案的上述基板上描绘上述第2图案的方式，根据上述第2图案的图案信息而控制上述光束的强度调变，

上述光束强度调变部以减少借由上述对准系统推断的上述相对的位置误差的方式，修正根据上述第2图案的上述图案信息的上述光束的描绘位置，

上述测量部将与上述所测量出的上述第1图案的位置相关的上述信息和借由上述光束强度调变部修正描绘位置而描绘的上述第2图案的位置加以比较，求出上述第1图案与上述第2图案的相对的残留位置误差。

4.根据权利要求1所述的图案描绘装置，其进而具备：

光束强度调变部，其以于进行上述光束扫描部的从上述扫描用透镜系统投射至上述基板的上述光束所进行的扫描的期间，于形成有上述第1图案的上述基板上描绘上述第2图案的方式，根据上述第2图案的上述图案信息而控制上述光束的强度调变；及

修正部，根据以上述测量部所测量出的上述信息而修正应描绘的上述第2图案的描绘状态。

5.根据权利要求1-4中任一项的所述的图案描绘装置，其中，

上述光束扫描部择一进行由上述偏向构件进行的上述光束的扫描与上述测量光的扫描。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的图案描绘装置，其中，

上述基板为长条的可挠性的片状基板；

所述图案描绘装置进而具备基板搬送机构，所述基板搬送机构在将该片状基板的短边方向设为主扫描方向，将长边方向设为副扫描方向时，将上述片状基板在上述副扫描方向以既定的速度进行搬送，

上述光束扫描部一面将上述光束与上述测量光以于上述副扫描方向上于上述片状基板上以既定间隔偏移的方式投射，一面于上述片状基板上同时或以固定的时间差进行上述光束与上述测量光的扫描。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的图案描绘装置，其中，

上述偏向构件为旋转多面镜或摆动反射镜，

上述光束扫描部的上述扫描用透镜系统为借由上述旋转多面镜或上述摆动反射镜的上述反射面而偏向的上述光束及上述测量光入射，以远心的状态将上述光束投射至上述基板上的fθ透镜。