[发明专利]具有自环形槽突出的支承突出部的基材固持设备

权利要求书

1.一种用于将至少一个基材(20)固持在CVD或PVD反应器的过程室中的设备，在所述CVD或PVD反应器的平坦的顶侧上具有至少一个被至少一个定位侧边(3)限定的、用于容纳至少一个基材(20)的容纳部，其中，支承料槽(2)具有支承料槽底部(4)，在定位侧边(3)的附近，支承突出部(8)自该支承料槽底部突出，所述支承突出部构成被侧壁(10)围绕的、位于支承平面(E)中的支承区(9)，所述支承区离围绕支承突出部(8)的槽(5)的底部(6)具有比离支承料槽底部(4)更大的垂直距离，其特征在于，槽(5)在凹陷(11)中延伸，所述凹陷的垂直高度位于槽(5)的底部(6)与支承料槽底部(4)之间。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，支承突出部(8)和/或围绕支承突出部(8)的槽(5)具有离定位侧边(3)的水平距离。

3.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，槽(5)与定位侧边(3)之间的水平距离通过凹陷(11)的第一部段(16)填充。

4.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，设有凹陷(11)的与第一凹陷部段(16)相连的、邻接在定位侧边(3)上的第二部段(17)。

5.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，第一凹陷部段(16)和两个第二凹陷部段(17)连同与第一凹陷部段(16)相对置的第三凹陷部段(18)一起无中断地围绕槽(5)。

6.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，支承突出部(8)被基材(20)的边缘完全覆盖。

7.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，支承区(9)的中点离定位侧边(3)间隔至少4mm。

8.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，支承区(9)是具有最多0.7mm或最多0.5mm、优选最多0.3mm的直径的平面(E)。

9.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，在横截面中为圆形的侧壁(10)无折点地过渡至支承区(9)，和/或在横截面中为圆形的侧壁(10)无折点地从支承区(9)延伸至槽(5)的槽底部(6)，和/或槽底部(6)通过圆形的切口的顶点构成，所述切口在构成边棱(15)或圆弧的情况下过渡至凹陷底部(12)。

10.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，凹陷底部(12)是平行于支承面(9)延伸的平面。

11.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，支承料槽(2)具有至少六个尤其在周向上沿圆弧线均匀间隔的支承突出部(8)。

12.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，支承区(9)与支承料槽底部(4)之间的垂直距离(D₁)约为400μm，支承区(9)与凹陷底部(12)之间的垂直距离(D₂)约为500μm，并且支承平面(E)与槽底部(6)之间的垂直距离(D₃)约为700μm。

13.一种设备，其特征在于上述权利要求中任一项所述一个或多个特定技术特征。