[发明专利]用于抑制腐蚀的组合物和方法有效
申请号: | 201780023332.3 | 申请日: | 2017-03-30 |
公开(公告)号: | CN109072452B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 马尔塔·德雷夫尼亚克;莱尔·H·施泰梅尔 | 申请(专利权)人: | NCH公司 |
主分类号: | C23F11/10 | 分类号: | C23F11/10;C23F11/12;C23F11/14;C23F11/18;C02F5/04;C02F5/14 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 张英;沈敬亭 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 抑制 腐蚀 组合 方法 | ||
1.一种对包含一定体积的水的水系统进行处理以抑制所述水系统中镀锌钢组分上的白锈形成的方法,所述方法包括:
向所述水系统中的水中添加基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐;以及
向所述水系统中的水中添加第一膦酸或它的水溶性盐;
其中所述第一膦酸是(1)羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐或者(2)HEDP或它的水溶性盐;并且
其中在所述水系统中的一定体积的水中,添加步骤提供3ppm-50ppm的所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐的活性浓度以及3ppm-50ppm的所述第一膦酸或它的水溶性盐的活性浓度。
2.根据权利要求1所述的方法,进一步包括向所述水系统中的水中添加第二膦酸或它的水溶性盐;并且
其中所述第一膦酸是羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐和所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐两者均以下述量被添加:当添加至所述水系统中的一定体积的水中时,在所述水系统中所述量提供的所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐、所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐以及所述第二膦酸或它的水溶性盐的合并活性浓度为至少9ppm;并且
其中所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐和所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐的合并重量与所述第二膦酸或它的水溶性盐的重量比为90:10至60:40。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述基于氨基酸的聚合物为聚天冬氨酸或它的盐,并且其中所述水系统中的水中包含抗微生物剂。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一膦酸是羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐;并且
其中所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐以及所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐在添加至所述水系统中之前在处理组合物中合并,并且其中所述处理组合物包含按重量计2%-15%的所述基于氨基酸的聚合物和按重量计2%至10%的所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一膦酸是羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐;并且
所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐、所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐以及示踪剂在添加至所述水系统中之前在处理组合物中合并,并且其中所述方法进一步包括:
基于所述示踪剂的测量值,定期测量所述水系统中的所述处理组合物的量。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述处理组合物进一步包含中和胺、氯稳定剂、阻垢剂、分散剂、钢或铜腐蚀抑制剂、螯合剂、以及唑类腐蚀抑制剂中的一种或多种。
8.根据权利要求5所述的方法,进一步包括根据需要添加另外的量的所述处理组合物以维持至少3ppm的所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐的活性浓度以及至少3ppm的所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐的活性浓度,其中这些浓度是当添加至所述水系统中的一定体积的水中时的浓度。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐和所述第一膦酸或它的水溶性盐两者被分别添加至所述水系统中。
10.根据权利要求2所述的方法,其中所述第二膦酸是膦酰基羧酸或它的水溶性盐。
11.根据权利要求2所述的方法,其中第二膦酸添加步骤在所述水系统中的一定体积的水中提供至少2ppm的膦酰基羧酸或它的水溶性盐的活性浓度;
其中基于氨基酸的聚合物添加步骤在所述水系统中的一定体积的水中提供至少3ppm的所述基于氨基酸的聚合物或它的水溶性盐的活性浓度;并且
其中羟基膦酰基乙酸添加步骤在所述水系统中的一定体积的水中提供了至少3ppm的所述羟基膦酰基乙酸或它的水溶性盐的活性浓度。
12.根据权利要求2所述的方法,其中所述第二膦酸是HEDP、PBTC、或两者。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NCH公司,未经NCH公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780023332.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:纳米多孔半导体材料及其制造
- 下一篇:去除各种类型沉积物的溶液