[发明专利]分子筛SSZ-104，其合成及用途

权利要求书

1.一种结晶分子筛，在其煅烧后形式下，具有包括在下表中的峰的X射线衍射图：

2-θ	d-间距，纳米	相对强度
7.51±0.20	1.176	S
9.63±0.20	0.918	W
12.51±0.20	0.707	W
12.96±0.20	0.682	S
15.11±0.20	0.586	W
16.26±0.20	0.545	W
17.87±0.20	0.496	VS
19.90±0.20	0.459	S
20.79±0.20	0.427	VS
21.73±0.20	0.409	S
22.18±0.20	0.401	W
22.57±0.20	0.394	W
26.09±0.20	0.341	S
28.17±0.20	0.317	M
30.27±0.20	0.295	M
30.87±0.20	0.289	S
31.75±0.20	0.282	W
33.57±0.20	0.267	W
34.72±0.20	0.258	W

其中所提供的粉末XRD图基于相对强度等级，其中所述粉末X射线衍射图中最强的谱线指定为100的值：W＝弱，即0至≤20；M＝中等，即20至≤40；S＝强，即40至≤60；VS＝非常强，即60至≤100。