[发明专利]铜合金、铜合金铸块、铜合金固溶材料及铜合金架空线、铜合金架空线的制造方法在审
申请号: | 201780024960.3 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN109072343A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 榎并悠介;坂本敏夫;中本齐;大石恵一郎;菅原淳;山下主税;小原拓也 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社;三菱伸铜株式会社 |
主分类号: | C22C9/06 | 分类号: | C22C9/06;C22C9/00;C22C9/02;C22C9/04;C22C9/05;H01B1/02;B22D11/00;B22D11/06;B22D11/108;B22D11/12;B22D35/00;C22F1/00;C22F1/08 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 辛雪花;周艳玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜合金 架空线 固溶 铸块 制造 | ||
1.一种铜合金,其特征在于,
具有如下组成:即,包含0.05质量%以上且0.70质量%以下的Co、0.02质量%以上且0.20质量%以下的P以及0.005质量%以上且0.70质量%以下的Sn,还含有B、Cr及Zr中的任意一种或两种以上,剩余部分由Cu及不可避免的杂质构成,
将B的含量设为X,将Cr的含量设为Y,将Zr的含量设为Z时,满足下述式1及式2:
式1:1≤(X/5)+(Y/50)+(Z/100);
式2:X+Y+Z≤1000,
其中,X、Y及Z的单位为质量ppm。
2.根据权利要求1所述的铜合金,其特征在于,
还满足下述式3及式4:
式3:1≤(2X/5)+(2Y/50);
式4:Y<400。
3.根据权利要求1或2所述的铜合金,其特征在于,
含有5质量ppm以上且1000质量ppm以下的范围内的B。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的铜合金,其特征在于,
还包含0.01质量%以上且0.15质量%以下的Ni及0.005质量%以上且0.07质量%以下的Fe中的任意一种或两种。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的铜合金,其特征在于,
还包含0.002质量%以上且0.5质量%以下的Zn、0.002质量%以上且0.25质量%以下的Mg及0.002质量%以上且0.25质量%以下的Ag中的任意一种或两种以上。
6.一种铜合金铸块,其特征在于,
具有权利要求1至5中任一项所述的铜合金的组成,
实施加工率50%的冷轧,在950℃下进行1小时的热处理之后的平均结晶粒径为400μm以下。
7.根据权利要求6所述的铜合金铸块,其特征在于,
在950℃下进行1小时的热处理之后的导电率为45%IACS以下。
8.一种铜合金固溶材料,其特征在于,
具有权利要求1至5中任一项所述的铜合金的组成,
导电率为45%IACS以下。
9.一种铜合金架空线,其特征在于,
具有如下组成:即,包含0.12质量%以上且0.40质量%以下的Co、0.04质量%以上且0.16质量%以下的P以及0.01质量%以上且0.50质量%以下的Sn,还含有B、Cr及Zr中的任意一种或两种以上,剩余部分由Cu及不可避免的杂质构成,
将B的含量设为X,将Cr的含量设为Y,将Zr的含量设为Z时,满足下述式1及式2:
式1:1≤(X/5)+(Y/50)+(Z/100);
式2:X+Y+Z≤1000,
其中,X、Y及Z的单位为质量ppm。
10.根据权利要求9所述的铜合金架空线,其特征在于,
还满足下述式3及式4:
式3:1≤(2X/5)+(2Y/50);
式4:Y<400。
11.根据权利要求9或10所述的铜合金架空线,其特征在于,
含有5质量ppm以上1000质量ppm以下的范围内的B。
12.一种铜合金架空线的制造方法,其特征在于,
该制造方法为权利要求9至11中任一项所述的铜合金架空线的制造方法,
具有:连续铸造轧制工序,连续制作出铜粗轧线;固溶处理工序,对所获得的铜粗轧线进行固溶处理;一次冷加工工序,对固溶处理工序后的固溶材料进行冷加工来制作出铜线材;时效热处理工序,对所述铜线材实施时效热处理;及二次冷加工工序,对时效热处理工序后的时效热处理材料进行冷加工,
所述固溶处理工序中,将保持温度设为900℃以上且1000℃以下的范围内,将在所述保持温度下的保持时间设为30分钟以上且600分钟以下的范围内,
所述时效热处理工序中,将热处理温度设为300℃以上且600℃以下的范围内,将在所述热处理温度下的保持时间设为60分钟以上且1500分钟以下的范围内。
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