[发明专利]对增材制造设备中的多个扫描器的校准方法

权利要求书

1.一种用于确定增材制造设备的扫描器的光束转向光学器件的位置校正的方法，所述增材制造设备包括多个扫描器，所述多个扫描器中的每一个扫描器包括用于将相应的辐射束引导到其中材料被成层固结的工作平面的光束转向光学器件，所述方法包括：控制所述扫描器中的一对扫描器的所述光束转向光学器件使得所述一对扫描器的第一扫描器引导辐射束以在所述工作平面中形成特征并且所述特征处在所述一对扫描器的第二扫描器的检测器的视野内，所述检测器用于检测来自所述工作平面的由所述第二扫描器的所述光束转向光学器件收集的辐射；利用所述第二扫描器的所述检测器针对所述视野记录至少一个检测器值；以及根据所述检测器值与预期检测器值进行的比较来确定校正值,所述预期检测器值根据所述一对扫描器的所述第一扫描器的所述转向光学器件在形成所述特征时的定位而确定，所述校正值用于校正所述增材制造设备的所述一对扫描器中的一者的所述光束转向光学器件的位置，

其中，所述特征是：（i）辐射分布或由所述工作平面中的所述辐射束形成的熔池；或

(ii)被烧蚀到表面中或者是通过使用所述辐射束在所述工作平面中固结材料而形成的特征；或(iii)由所述第一扫描器引导到所述工作平面中的材料上的结构化光。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，被烧蚀到表面中或者是通过使用所述辐射束在所述工作平面中固结材料而形成的所述特征包括在所述第二扫描器的所述检测器的所述视野中在所述工作平面中形成的参考图案。

3.一种用于确定增材制造设备的扫描器的光束转向光学器件的位置校正的方法，所述增材制造设备包括多个扫描器，每个扫描器包括用于将相应的辐射束引导到其中材料被成层固结的工作平面的光束转向光学器件以及用于检测来自所述工作平面的由所述光束转向光学器件收集的辐射的检测器，所述方法包括：控制扫描器中的一对扫描器的第一扫描器和第二扫描器的所述光束转向光学器件，使得针对所述第一扫描器和所述第二扫描器的所述检测器的所述工作平面的视野至少重叠；利用所述第一扫描器和所述第二扫描器中的每一者的所述检测器针对相应的视野来记录至少一个检测器值；以及根据由所述第一扫描器和所述第二扫描器记录的所述检测器值的比较来确定校正值，所述校正值用于校正所述增材制造设备的所述一对扫描器中的一者的所述光束转向光学器件的位置。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述视野在名义上是相连的。

5.根据权利要求3所述的方法，包括：当辐射束由所述多个扫描器中的一个引导到所述视野内的所述工作平面中的材料上时记录检测器值。

6.根据权利要求3所述的方法，包括：基于所述视野内的使用所述辐射束之一形成的特征来记录检测器值。

7.根据权利要求3所述的方法，包括：基于位于所述视野内的参考图案来记录检测器值。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述参考图案是使用所述辐射束之一形成的。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述参考图案是使用所述辐射束之一通过在所述工作平面中烧蚀表面或在所述工作平面中固结材料而在所述工作平面中形成的。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，所述参考图案是使用结构化光形成的。

11.根据权利要求7所述的方法，其中，所述参考图案被预成型在被放置在所述增材制造设备中的参考人工制品上，使得所述参考图案处于所述视野内。

12.根据权利要求7所述的方法，其中，所述参考图案包括至少一个周期性特征，所述方法包括：利用所述第二扫描器的所述检测器捕获所述参考图案的图像，根据所述图像确定所述参考图案的所测量的周期性质，以及基于所述所测量周期性质与参考周期性质的比较来确定针对所述第一扫描器或所述第二扫描器的控制的校正。