[发明专利]STA-20，一种新分子筛骨架类型，制备方法和用途

权利要求书

1.分子筛STA-20，其具有基于以下关于煅烧的、脱水的SAPO STA-20的晶胞的信息的骨架类型：

2.根据权利要求1所述的分子筛，其中该分子筛是硅铝磷酸盐(SAPO)、金属硅铝磷酸盐(MeSAPO)或金属铝磷酸盐(MeAPO)。

3.根据上述权利要求中任一项所述的分子筛，其中该分子筛是硅铝磷酸盐。

4.根据上述权利要求中任一项所述的分子筛，其中该STA-20结构没有结构缺陷。

5.根据上述权利要求中任一项所述的分子筛，其中该分子筛在骨架内包含至少一种金属，其中该金属选自周期表第IIIA、IB、IIB、VA、VIA、VIIA、VIIIA族及其组合的至少一种金属，优选铈、铬、钴、铜、铁、镁、锰、钼、镍、钯、铂、铑、钛、钨、钒和锌，更优选钴、铜、铁或锌。

6.根据上述权利要求中任一项所述的分子筛，其中该分子筛进一步包含选自以下的至少一种骨架外过渡金属：Ag、Ce、Co、Cr、Cu、Fe、Ga、In、Ir、Mn、Mo、Ni、Pd、Pt、Re、Rh、Ru、Sn和Zn，优选Cu、Fe、Co和Ni。

7.根据上述权利要求中任一项所述的分子筛，其中该分子筛是煅烧的，或者包含一种或多种结构导向剂(SDA)。

8.根据上述权利要求中任一项所述的分子筛，该分子筛具有摩尔关系：(Si_xAl_yP_z)O₂，其中x是Si的摩尔分数，其值为0.01-0.3，优选0.01-0.1，y是Al的摩尔分数，其值为0.4-0.6，优选0.5-0.6，z是P的摩尔分数，其值为0.2-0.5，优选0.35-0.45，并且x+y+z＝1。

9.根据权利要求8所述的分子筛，其中该分子筛是煅烧的分子筛，并且具有选自以下的至少一种性质：基本上类似于图3所示的特性X射线粉末衍射图案；和包含在7.9(vs)、11.8(vs)、13.7(vs)、14.2(vs)和21.1(s)±0.2的2θ位置且具有括号中所示的相应相对强度的特性X射线粉末衍射图案，其中该相应相对强度是W(弱)<20；M(中等)≥20且<40；S(强)≥40且<60；和VS(非常强)≥60。

10.根据权利要求9所述的分子筛，其中该特性X射线粉末衍射图案进一步包含在23.8(m)和31.9(m)±0.2的2θ位置且具有括号中所示的相应相对强度。

11.根据权利要求9或10所述的分子筛，其中该特性X射线粉末衍射图案进一步包含以下特性X射线粉末衍射图案，其包含在8.4(w)、15.8(w)、16.7(w)、19.8(w)、21.0(w)、22.5(w)、24.1(w)、27.6(w)、28.7(w)、31.2(w)和36.0(w)±0.2的2θ位置且具有括号中所示的相应相对强度。

12.根据权利要求1-6之一所述的分子筛，其中该分子筛进一步包含一种或多种结构导向剂(SDA)。

13.根据权利要求12所述的分子筛，其中该结构导向剂包括烷基胺和1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷衍生物。

14.根据权利要求13所述的分子筛，其中该烷基胺是三甲基胺或二甲基乙基胺。

15.根据权利要求13或14所述的分子筛，其中该1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷衍生物包括1,6-(1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷)己基阳离子。