[发明专利]通过使用氮化钼基涂层减轻磨损和/或摩擦有效

专利信息
申请号: 201780026396.9 申请日: 2017-04-07
公开(公告)号: CN109196136B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: J·卡纳;N·贝加诺维奇;尤尔根·拉姆;贝诺·维德里希 申请(专利权)人: 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
主分类号: C23C14/00 分类号: C23C14/00;C23C14/06;C23C28/04;C23C30/00
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 何志欣
地址: 瑞士普费*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 通过 使用 氮化 涂层 减轻 磨损 摩擦
【权利要求书】:

1.一种构件,包括涂覆有含MoxCryN单层的涂层的表面,其中,在只考虑钼和铬时,x和y分别对应于按原子百分比计的钼含量和铬含量的系数并且因此x+y=100原子%,其中,所述构件的被涂覆的表面具有等于或小于65HRC的硬度,其中,MoxCryN中的铬含量沿MoxCryN层的厚度改变。

2.根据权利要求1所述的构件,其特征是,5原子%≤y≤50原子%。

3.根据权利要求1所述的构件,其特征是,20原子%≤y≤40原子%。

4.根据权利要求1至3之一所述的构件,其特征是,该涂层含有沉积在所述构件的表面和所述MoxCryN层之间的CrN层。

5.根据权利要求1所述的构件,其特征是,该构件是汽车构件或精密零部件。

6.根据权利要求1所述的构件,其特征是,所述MoxCryN层的涂层厚度为2微米。

7.一种制造根据权利要求1-6之一所述的构件的方法,其中,该MoxCryN层通过反应性物理气相沉积工艺来沉积。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征是,所述反应性物理气相沉积工艺是反应性电弧物理气相沉积工艺,其中,在该MoxCryN的沉积过程中,至少一个含有钼和铬的靶或者至少一个含有钼的靶和至少一个含有铬的靶利用电弧物理气相沉积技术在含有作为反应气体的氮气的气氛中被气化。

9.根据权利要求7或8所述的方法,其特征是,所述构件的待涂覆表面在沉积MoxCryN之前未进行改性。

10.根据权利要求7所述的方法,其特征是,所述构件表面未进行氮化。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征是,所述涂覆过程在200℃进行。

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