[发明专利]用于形成保持装置的模制设备有效

专利信息
申请号: 201780026538.1 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN109070393B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: D·博斯谢尔;A·马希 申请(专利权)人: 埃普利克斯公司
主分类号: B29C33/10 分类号: B29C33/10;B29C41/28;B29C43/48;A44B18/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 郑特强;刘潇
地址: 法国勒*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 形成 保持 装置 设备
【权利要求书】:

1.一种用于形成保持装置的模制设备(10),所述模制设备(10)包括模制条(12)和模制支撑件(24),所述模制条(12)具有内部面(14)、外部面(16)和从所述外部面(16)延伸到所述内部面(14)的多个通腔体(18),所述模制条(12)沿纵向方向(X)延伸并具有垂直于纵向方向(X)的横向方向(Y),以及垂直于所述纵向方向(X)和所述横向方向(Y)的高度方向(Z),所述内部面(14)被构造成压靠在所述模制支撑件(24)的模制面(26)上,其中所述模制条(12)的内部面(14)和/或所述模制支撑件(24)的模制面(26)包括通道阵列(46),当所述模制条(12)压靠在所述模制支撑件(24)上时,所述通道阵列(46)形成通气孔(50)并将所述腔体(18)连接在一起。

2.根据权利要求1所述的模制设备(10),其中,所述模制条的内部面(14)和/或所述模制支撑件(24)的模制面(26)具有大于或等于1.0μm,且小于或等于50.0μm的最大粗糙高度Rz。

3.根据权利要求2所述的模制设备(10),其中,所述模制条的内部面(14)和/或所述模制支撑件(24)的模制面(26)具有大于或等于3.0μm,且小于或等于50.0μm的最大粗糙高度Rz。

4.根据权利要求1所述的模制设备(10),其中,所述内部面(14)具有边缘(52),所述边缘围绕每个腔体(18)的开口部分且从所述内部面(14)突出,所述边缘(52)之间限定有所述通道阵列(46),每个边缘(52)具有不同高度(HR1、HR2、HR3、HR4),使得当所述模制条(12)被压靠在所述模制支撑件(24)上时,每个边缘(52)的至少一部分不压靠在所述模制支撑件(24)上,使得每个腔体(18)通过所述通道阵列(46)与大气连接。

5.根据权利要求4所述的模制设备(10),其中,腔体(18)的给定边缘(52)的两个高度之间的最大差异大于或等于1.0μm,且小于或等于100.0μm。

6.根据权利要求5所述的模制设备(10),其中,腔体(18)的给定边缘(52)的两个高度之间的最大差异大于或等于1.0μm,且小于或等于50.0μm。

7.根据权利要求5所述的模制设备(10),其中,腔体(18)的给定边缘(52)的两个高度之间的最大差异大于或等于2.0μm,且小于或等于100.0μm。

8.根据权利要求5所述的模制设备(10),其中,腔体(18)的给定边缘(52)的两个高度之间的最大差异大于或等于2.0μm且小于或等于50.0μm。

9.根据权利要求5所述的模制设备(10),其中,腔体(18)的给定边缘(52)的两个高度之间的最大差异大于或等4.0μm,且小于或等于100.0μm。

10.根据权利要求5所述的模制设备(10),其中,腔体(18)的给定边缘(52)的两个高度之间的最大差异大于或等于4.0μm,且小于或等于50.0μm。

11.根据权利要求1所述的模制设备(10),其中,所述通道阵列(46)在所述纵向方向(X)上延伸。

12.根据权利要求1所述的模制设备(10),其中,所述通道阵列(46)在所述横向方向(Y)上延伸。

13.根据权利要求1所述的模制设备(10),其中,每个腔体(18)限定从所述外部面(16)朝向所述内部面(14)延伸的主干,并具有朝向所述模制条(12)的内部面(14)延伸远离所述主干的头形成端。

14.根据权利要求1所述的模制设备(10),其中,所述模制条(12)的每个腔体(18)被构造成形成保持元件(38)的预成型件。

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