[发明专利]用于制造绝缘元件的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201780027406.0 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN109075678B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 迈克尔·胡贝尔;克里斯托佛·路德维希斯;于尔根·哈格多恩 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司;奥曼埃斯珀尔坎普有限公司
主分类号: H02K15/10 分类号: H02K15/10
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 绝缘 元件 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种用于制造用于定子基体(3)或转子基体或单齿基体的绝缘元件(2)的方法,包括以下步骤:

提供(100)绝缘材料(4),

接收(200)或生成或调用处理数据,其中所述绝缘材料(4)必须依据所述处理数据得到处理以制造所述绝缘元件(2),以及

根据所述处理数据,通过激光设备(14)处理(300)所述绝缘材料(4),以便由所述绝缘材料(4)制造所述绝缘元件(2),

其中,所述处理数据限定用于切割所述绝缘材料(4)的至少一个界面(5),和/或用于弱化所述绝缘材料(4)的至少一个弱化部位(6),以及

其中,所述处理(300)包括沿着所述界面(5)切割所述绝缘材料的切割(400)和/或沿着所述弱化部位(6)弱化所述绝缘材料(4)的弱化(500)。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述绝缘材料(4)的所述弱化(500)包括将凹口(7)插入所述绝缘材料(4)内和/或将所述绝缘材料(4)穿孔。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,沿着弧形的弱化部位(6)来执行所述凹口(7)的插入和/或穿孔。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,沿着S形的弱化部位(6)来执行所述凹口(7)的插入和/或穿孔。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,在接收(200)所述处理数据之前,对所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体进行测量(700),其中所述处理数据是从所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的所述测量中产生的。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,由两个相对的界面(5)之间的距离限定的所述绝缘元件(2)的长度,是基于所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的测量厚度来确定的,其中在测量厚度上加上偏差。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,为所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体制造多个绝缘元件(2),其能够分别插入所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的凹槽(8)内,其中针对所有绝缘元件(2)的所述处理数据是相同的。

8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,为所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体制造多个绝缘元件(2),其能够分别插入所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的凹槽(8)内,其中针对每单个绝缘元件(2)对处理数据进行单独调整。

9.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,所述处理数据包括待施加到所述绝缘材料(4)的图案(9)和/或待施加到所述绝缘材料(4)的铭文,其中所述处理包括将所述图案(9)和/或所述铭文施加(600)到所述绝缘材料(4)上。

10.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,基于所述处理数据对所述绝缘材料(4)进行处理(300)的时间段最长为一秒。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,基于所述处理数据对所述绝缘材料(4)进行处理(300)的时间段最长为半秒。

12.一种用于生产用于定子基体(3)或转子基体或单齿基体的绝缘元件(2)的制造设备(1),包括:

用于供应绝缘材料(4)的材料供应设备(10),

用于处理所述绝缘材料(4)的激光设备(14),

用于接收和/或生成和/或调用处理数据并用于基于所述处理数据控制所述激光设备(14)的控制单元(15),

其中,所述绝缘元件(2)能够由绝缘材料(4)通过处理所述绝缘材料(4)来制造,以及

其中,处理所述绝缘材料(4)包括切割和/或弱化所述绝缘材料(4)的过程。

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