[发明专利]用于制造绝缘元件的方法和设备有效
申请号: | 201780027406.0 | 申请日: | 2017-04-18 |
公开(公告)号: | CN109075678B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 迈克尔·胡贝尔;克里斯托佛·路德维希斯;于尔根·哈格多恩 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司;奥曼埃斯珀尔坎普有限公司 |
主分类号: | H02K15/10 | 分类号: | H02K15/10 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 王刚;龚敏 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 绝缘 元件 方法 设备 | ||
1.一种用于制造用于定子基体(3)或转子基体或单齿基体的绝缘元件(2)的方法,包括以下步骤:
提供(100)绝缘材料(4),
接收(200)或生成或调用处理数据,其中所述绝缘材料(4)必须依据所述处理数据得到处理以制造所述绝缘元件(2),以及
根据所述处理数据,通过激光设备(14)处理(300)所述绝缘材料(4),以便由所述绝缘材料(4)制造所述绝缘元件(2),
其中,所述处理数据限定用于切割所述绝缘材料(4)的至少一个界面(5),和/或用于弱化所述绝缘材料(4)的至少一个弱化部位(6),以及
其中,所述处理(300)包括沿着所述界面(5)切割所述绝缘材料的切割(400)和/或沿着所述弱化部位(6)弱化所述绝缘材料(4)的弱化(500)。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述绝缘材料(4)的所述弱化(500)包括将凹口(7)插入所述绝缘材料(4)内和/或将所述绝缘材料(4)穿孔。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,沿着弧形的弱化部位(6)来执行所述凹口(7)的插入和/或穿孔。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,沿着S形的弱化部位(6)来执行所述凹口(7)的插入和/或穿孔。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,在接收(200)所述处理数据之前,对所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体进行测量(700),其中所述处理数据是从所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的所述测量中产生的。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,由两个相对的界面(5)之间的距离限定的所述绝缘元件(2)的长度,是基于所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的测量厚度来确定的,其中在测量厚度上加上偏差。
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,为所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体制造多个绝缘元件(2),其能够分别插入所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的凹槽(8)内,其中针对所有绝缘元件(2)的所述处理数据是相同的。
8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,为所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体制造多个绝缘元件(2),其能够分别插入所述定子基体(3)或所述转子基体或所述单齿基体的凹槽(8)内,其中针对每单个绝缘元件(2)对处理数据进行单独调整。
9.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,所述处理数据包括待施加到所述绝缘材料(4)的图案(9)和/或待施加到所述绝缘材料(4)的铭文,其中所述处理包括将所述图案(9)和/或所述铭文施加(600)到所述绝缘材料(4)上。
10.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,基于所述处理数据对所述绝缘材料(4)进行处理(300)的时间段最长为一秒。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,基于所述处理数据对所述绝缘材料(4)进行处理(300)的时间段最长为半秒。
12.一种用于生产用于定子基体(3)或转子基体或单齿基体的绝缘元件(2)的制造设备(1),包括:
用于供应绝缘材料(4)的材料供应设备(10),
用于处理所述绝缘材料(4)的激光设备(14),
用于接收和/或生成和/或调用处理数据并用于基于所述处理数据控制所述激光设备(14)的控制单元(15),
其中,所述绝缘元件(2)能够由绝缘材料(4)通过处理所述绝缘材料(4)来制造,以及
其中,处理所述绝缘材料(4)包括切割和/或弱化所述绝缘材料(4)的过程。
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