[发明专利]暗场或相衬X射线成像中的特征抑制在审

专利信息
申请号: 201780027541.5 申请日: 2017-05-04
公开(公告)号: CN109074636A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: H-I·马克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;A61B6/00;G06T5/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 暗场 处理单元 衰减图像 特征抑制 配置 输入单元 解剖 感兴趣区域 输出单元 输出表示 位置转移 配准 遮蔽 描绘
【权利要求书】:

1.一种用于暗场或相衬X射线成像中的特征抑制的装置(10),包括:

-输入单元(20);

-处理单元(30);以及

-输出单元(40);

其中,所述输入单元被配置为向所述处理单元提供目标的感兴趣区域的X射线衰减图像;

其中,所述输入单元被配置为向所述处理单元提供所述目标的所述感兴趣区域的暗场或相衬X射线图像;

其中,所述处理单元被配置为:在所述X射线衰减图像中识别第一特征;并且在所述X射线衰减图像中识别第二解剖特征;并且在所述暗场或相衬X射线图像中识别所述第二解剖特征;其中,所述第一特征是在所述X射线衰减图像中描绘的、具有比在所述暗场或相衬X射线图像中更高的对比度的遮蔽解剖特征;

其中,所述处理单元还被配置为基于识别出的第二解剖特征将所述暗场或相衬X射线图像配准到所述X射线衰减图像;

其中,所述处理单元被配置为在所述X射线衰减图像中确定所述第一特征的位置并且在所述暗场或相衬X射线图像中对所述第一特征进行定位,所述定位包括通过将所确定的位置转移到所述暗场或相衬X射线图像来利用与在所述X射线衰减图像中识别出的所述第一特征有关的信息;

其中,所述处理单元被配置为抑制所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征,以生成特征抑制的暗场或相衬X射线图像;并且

其中,所述输出单元被配置为输出表示所述特征抑制的暗场或相衬X射线图像的数据。

2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述处理单元(30)被配置为在所述暗场或相衬X射线图像中对所述第一特征进行定位,所述定位包括利用与在所述衰减图像中识别出的并且在所述暗场或相衬图像中识别出的第二特征有关的信息。

3.根据权利要求2所述的装置,其中,所述处理单元(30)被配置为确定与所述X射线衰减图像中的所述第一特征和所述第二特征的相对位置有关的信息,并且所述处理单元被配置为基于与所述X射线衰减图像中的所述第一特征和所述第二特征的所述相对位置有关的所述信息来确定所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征和所述第二特征的相对位置。

4.根据权利要求2-3中的任一项所述的装置,其中,所述目标是身体部分,并且所述第二特征包括以下中的一个或多个:肺的至少部分、隔膜的至少部分,以及脊柱的至少部分。

5.根据权利要求1-4中的任一项所述的装置,其中,所述第一特征包括骨结构的至少部分。

6.根据权利要求1-5中的任一项所述的装置,其中,所述处理单元(30)被配置为确定针对所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征的扩散系数与距离的乘积,以抑制所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征。

7.根据权利要求6所述的装置,其中,所述处理单元(30)被配置为确定针对所述第一特征的扩散系数并且确定包括通过所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征的长度的距离;并且其中,所述处理单元被配置为确定针对所述暗场或相衬X射线图像中的除所述第一特征以外的特征的扩散系数;并且其中,所述处理单元被配置为用针对所述第二特征的扩散系数与针对所述第一特征的距离的乘积来替换针对所述第一特征的扩散系数与针对所述第一特征的距离的乘积,以抑制所述暗场或相衬X射线图像中的所述第一特征。

8.根据权利要求1-7中的任一项所述的装置,其中,所述X射线衰减图像和暗场或相衬X射线图像是基本上同时采集的。

9.一种用于暗场或相衬X射线成像中的特征抑制的系统(100),所述系统包括:

-至少一个图像采集单元(110);以及

-根据前述权利要求中的任一项所述的用于暗场或相衬X射线成像中的特征抑制的装置(10);

其中,所述至少一个图像采集单元被配置为提供所述X射线衰减图像并且提供所述暗场或相衬X射线图像;并且

其中,所述输出单元(40)被配置为输出特征抑制的暗场或相衬X射线图像。

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