[发明专利]用于生成照射辐射的方法和设备

权利要求书

1.一种用于在高次谐波发生辐射源中生成照射辐射束的方法，包括：

将辐射束分成第一多个辐射脉冲和第二多个辐射脉冲；

控制所述第一多个辐射脉冲的第一可控特性，以产生第一部分的输出射束，所述第一部分的输出射束被用于控制所述照射辐射束的输出波长谱的第一部分；

控制所述第二多个辐射脉冲的第二可控特性，以产生第二部分的输出射束，所述第二部分的输出射束被用于控制所述照射辐射束的所述输出波长谱的第二部分；以及

在分束器处组合所述第一部分的输出射束和所述第二部分的输出射束。

2.根据权利要求1所述的方法，其中控制第一可控特性包括：控制所述第一多个辐射脉冲相对于所述第二多个辐射脉冲的特定延迟值的延迟。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第一可控特性或所述第二可控特性中的至少一个可控特性被控制以便分别引起所述输出波长谱的所述第一部分或所述第二部分包括单波长连续谱。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中控制所述第一可控特性或控制所述第二可控特性中的至少一项包括：控制用于所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一个脉冲的高次谐波发生的发生时间窗口。

5.根据权利要求4所述的方法，其中控制所述第一可控特性或控制所述第二可控特性中的至少一项包括：对所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一项执行选通。

6.根据权利要求4所述的方法，其中对所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一项执行广义双光学选通。

7.根据权利要求4所述的方法，其中控制所述第一可控特性或控制所述第二可控特性中的至少一项包括：对所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一项执行脉冲压缩。

8.根据权利要求1、2、5至7中任一项所述的方法，其中所述第一可控特性或所述第二可控特性中的至少一个可控特性被控制使得所述输出波长谱的所述第二部分不同于所述输出波长谱的所述第一部分。

9.一种用于检查设备的方法，包括：

控制第一多个辐射脉冲的第一可控特性，以产生第一部分的输出射束，所述第一部分的输出射束被用于控制照射辐射束的输出波长谱的第一部分；

控制第二多个辐射脉冲的第二可控特性，以产生第二部分的输出射束，所述第二部分的输出射束被用于控制所述照射辐射束的所述输出波长谱的第二部分；

组合所述第一部分的输出射束和所述第二部分的输出射束，其中所述第一部分的输出射束和所述第二部分的输出射束在组合之前是非反向传播的；以及

使用所述照射辐射束以确定目标的至少一个特性。

10.根据权利要求9所述的方法，其中控制所述第一可控特性包括：控制所述第一多个辐射脉冲相对于所述第二多个辐射脉冲的特定延迟值的延迟。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中所述第一可控特性或所述第二可控特性中的至少一个可控特性被控制以便分别引起所述输出波长谱的所述第一部分或所述第二部分包括单波长连续谱。

12.根据权利要求9或10所述的方法，其中控制所述第一可控特性或控制所述第二可控特性中的至少一项包括：控制用于所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一个脉冲的高次谐波发生的发生时间窗口。

13.根据权利要求12所述的方法，其中控制所述第一可控特性或控制所述第二可控特性中的至少一项包括：对所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一项执行选通。

14.根据权利要求12所述的方法，其中对所述第一多个辐射脉冲或所述第二多个辐射脉冲中的至少一项执行广义双光学选通。