[发明专利]具有防篡改保护的薄膜结构

权利要求书

1.一种具有防篡改保护的薄膜结构，所述薄膜结构包括：

-上部薄膜(10)；

-能激光刻写的层(20)，所述能激光刻写的层设置在所述上部薄膜(10)的下侧(U10)上；

-下部薄膜(40)；

-用于将所述下部薄膜(40)与所述上部薄膜(10)和所述能激光刻写的层(20)连接的连接层(30)，其中所述连接层(30)设置在所述能激光刻写的层(20)与所述下部薄膜(40)之间，

-其中所述薄膜结构(100)具有刻写的区域(101)和未刻写的区域(102)，

-其中所述上部薄膜(10)在所述刻写的区域(101)中与所述下部薄膜(40)熔合。

2.根据权利要求1所述的薄膜结构，其中所述上部薄膜(10)、所述能激光刻写的层(20)、所述连接层(30)和所述下部薄膜(40)之间的相互作用在所述薄膜结构的所述未刻写的区域(102)和所述刻写的区域(101)之间的边缘(103)处改变。

3.根据权利要求2所述的薄膜结构，其中所述上部薄膜(10)和所述下部薄膜(20)在所述未刻写的区域(102)中彼此分开。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的薄膜结构，其中所述上部薄膜(10)在所述薄膜结构的所述未刻写的区域(102)中通过所述能激光刻写的层(20)和所述连接层(30)与所述下部薄膜(40)分离。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)在所述薄膜结构的所述刻写的区域(101)中至少部分地被移除。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)的层厚度在所述薄膜结构的所述刻写的区域(101)中与所述未刻写的区域(102)相比是减小的。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)施加到所述上部薄膜(10)的所述下侧(U10)上。

8.根据权利要求7所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)蒸镀或溅射到所述上部薄膜(10)的所述下侧(U10)上。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)是金属性的层，所述金属性的层能够通过激光束(2)的作用烧蚀。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)构成为所述上部薄膜(10)的所述下侧(U10)处的铝金属化部。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的薄膜结构，其中所述激光能刻写的层(20)构成为具有黑色染色的铝层。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的薄膜结构，其中所述上部薄膜(10)在所述薄膜结构中构成为透明层。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的薄膜结构，其中所述下部薄膜(40)构成为白色层。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的薄膜结构，其中所述下部薄膜(40)具有至少一个薄弱线(41)。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的薄膜结构，其中在所述下部薄膜(40)的背离所述连接层(30)的侧(U40)上设置用于将所述薄膜结构粘贴到基底上的粘结剂层(50)。