[发明专利]用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途在审
| 申请号： | 201780029596.X | 申请日： | 2017-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN109072003A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | N.E.伊瓦莫托;J.T.肯尼迪;D.瓦拉普拉萨德;S.穆霍帕迪亚伊;谢松元 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C09D183/04 | 分类号： | C09D183/04;C09D7/63 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 马蔚钧;万雪松 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 甲硅烷基 三乙氧基 交联剂 苯基 三甲氧基甲硅烷基 聚硅氧烷配制物 光电子应用 甲硅烷基亚 双甲硅烷基 聚硅氧烷 双烷氧基 亚苯基 溶剂 侧基 硅烷 催化剂 制备 | ||
1.一种组合物，其包含：
溶剂；
催化剂；
包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷；和
包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。
2.权利要求1的组合物，其中所述交联剂选自1,4-双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,3-双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6-双(三乙氧基甲硅烷基)-萘、9,10-双(三乙氧基甲硅烷基)-蒽和1,6-双(三甲氧基甲硅烷基)-芘。
3.权利要求1的组合物，其中苯基侧基与甲基侧基的比率为大于1:1至小于10:1。
4.权利要求1的组合物，其中所述组合物是可交联组合物。
5.由权利要求4的组合物形成的交联膜。
6.权利要求5的交联膜，其中所述交联剂在聚硅氧烷的硅基团之间形成键。
7.一种在基底上形成涂层的方法，所述方法包括：
提供一种组合物，其包含溶剂、催化剂、包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷；和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂；和
将所述组合物沉积在基底上。
8.权利要求7的方法，其进一步包括固化所述涂层，其中固化所述涂层包括用交联剂在聚硅氧烷的硅基团之间形成键。
9.权利要求7的方法，其中所述交联剂选自双甲硅烷基苯、双烷氧基硅烷、1,3-双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,4-双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6-双(三乙氧基甲硅烷基)-萘、9,10-双(三乙氧基甲硅烷基)-蒽和1,6-双(三甲氧基甲硅烷基)-芘。
10.权利要求7的方法，其中苯基侧基与甲基侧基的比率为2:1或更大。
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