[发明专利]等离子体喷枪

权利要求书

1.一种等离子体喷枪，其特征在于：

在包括：主体部，用于提供工作气体、冷却流体、保护气体以及电能；以及，头部，结合到上述主体部，用于喷射等离子体射流以及保护气体；中，

上述头部，包括：

电极，采用前端部扁平的乳头(Teat)形状；

喷嘴，配置于上述电极的前方，前端部按照一定的曲率半径突出，内部采用与上述电极对应的形状；

喷嘴固定盖，用于将上述喷嘴固定到上述主体部；以及，

保护罩，配置于上述喷嘴的前方，内部按照一定的曲率半径凹陷。

2.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于：

上述头部，包括：

场盖，配置于上述保护罩的前方，配备有可供等离子体射流通过的主孔以及沿着上述主孔的外侧周围形成的多个气体喷射孔；

上述场盖，

为了在利用等离子体射流对被切割材料进行加工时避免从被切割材料崩出的副产物与上述头部发生接触而通过喷射出气体排出副产物。

3.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于：

在上述喷嘴的孔口入口周围，形成用于对当工作气体在上述电极与上述喷嘴之间放电时所生成的火花进行诱导的凹槽。

4.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于：

上述喷嘴，包括：

喷嘴主体，内部采用与上述电极对应的形状；以及，

喷嘴头，在上述喷嘴主体突出形成，外径小于上述喷嘴主体的外径，前端部按照一定的曲率半径突出；

上述喷嘴固定盖，包括：

固定盖头，采用具有与上述前端部相同的曲率半径的半球形碗(Bowl)状，在中央形成有用于对上述喷嘴头进行固定的固定孔；以及，

固定盖主体，在上述固定盖头的下部延长形成，与上述主体部结合。

5.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于：

上述保护罩，包括：

保护罩头，内部按照一定的曲率半径凹陷；

保护罩主体，采用圆筒形形态，在上述保护罩头的下部延长形成；以及，

保护罩气密环，配置于上述保护罩主体的内侧，配备有可供保护气体移动的内部腔室以及沿着内周面的周围形成的多个旋流孔。

6.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于：

上述主体部，包括：

第1主体，配备有具有一定长度的冷却管以及对冷却管进行围绕并加载与上述电极相同极性的电压的连接管；

旋流管，用于对上述连接管进行围绕，在一侧周围形成有可供工作气体流入的多个第1流入孔，而在另一侧周围形成有可供工作气体流入的多个第2流入孔，加载与上述电极相同极性的电压；以及，

第2主体，结合到上述第1主体的一侧，配备有用于对上述旋流管进行收容的收容部以及可供冷却流体移动的内部腔室；

在上述连接管的外周面和上述旋流管的内周面之间形成可供工作气体移动的第1区域，

在上述旋流管的外周面和上述收容部的壁面之间形成可供工作气体分路流动的第2区域。

7.根据权利要求6所述的等离子体喷枪，其特征在于：

在上述连接管的外周面，沿着长度方向以相同的间隔形成一定深度的凹槽。

8.根据权利要求6所述的等离子体喷枪，其特征在于：

在上述第2主体的前端部配备有隔断。

9.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于：

上述电极包括在前端部形成有嵌入槽的电极主体以及被插入到上述嵌入槽中的嵌块，

而在上述嵌入槽和上述嵌块之间配备有在将上述嵌块钎接(Braizing)到嵌入槽中时防止上述嵌块发生倾斜的固定用具。

10.根据权利要求2所述的等离子体喷枪，其特征在于：

上述嵌块的下部为圆锥形态。

11.根据权利要求4所述的等离子体喷枪，其特征在于：

在上述喷嘴固定盖和上述喷嘴之间介有O型环以及喷嘴环，

上述喷嘴环包括环状的主体以及沿着上述主体的周围按照一定的间隔形成的多个支撑杆，结合到上述喷嘴头，

使冷却流体与上述O型环相接。