[发明专利]自修复热障层及其制造方法在审
申请号: | 201780030057.8 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN109415795A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | R.瓦森;D.科克;K-H.劳瓦尔德;W.G.斯洛夫 | 申请(专利权)人: | 于利奇研究中心有限公司 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10;C23C4/134 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘维升;杨思捷 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热障层 注射 熔化 位点 燃烧器 自修复 等离子体射流 发生材料 喷射距离 使用寿命 引入 制造 分解 配备 改进 | ||
1.通过热障层粉末的大气等离子体喷涂(APS)在基底上制造自修复热障层的方法,
其特征在于,
- 在所述热障层中引入含铝的MoSi2粉末,其中所述MoSi2粉末包含2至15重量%含量的铝,
- 使用基于所述热障层计0.5至5重量%质量含量的MoSi2粉末,并
- 将所述热障层粉末在轴向上远离燃烧器的第一位点处注射,并将所述MoSi2粉末在轴向上更远离燃烧器的第二位点处注射到等离子体射流中,
- 其中在第一和第二位点之间设定20至60 mm的注射距离(l)。
2.根据权利要求1的方法,
其中使用如下热障层粉末,其包含具有Y2O3、MgO、CaO或CeO2作为稳定性组分的二氧化锆、Al2O3、TiO2、富铝红柱石、La2Zr2O7、Gd2Zr2O7或Y-Si-O。
3.根据权利要求1至2任一项的方法,
其中使用具有3至12重量%的铝含量的MoSi2粉末。
4.根据权利要求1至3任一项的方法,
其中使用具有额外最多2重量%的硼含量的MoSi2粉末。
5.根据权利要求1至4任一项的方法,
其中使用具有5 μm至60 μm的中值粒径d50,优选具有10 μm至50 μm的中值粒径d50的MoSi2粉末。
6.根据权利要求1至5任一项的方法,
其中在第一和第二位点之间设定30至50 mm的注射距离(l)。
7.根据权利要求1至6任一项的方法,
其中使用(Ar:He)作为等离子体气体,并设定大于400 A的电流强度。
8.根据权利要求1至7任一项的方法,
其中将所述热障层施加在至少一个首先沉积在基底上的增粘剂层上。
9.根据权利要求1至8任一项可制造的热障层,
其包含热障层材料作为基质,
以及基于所述热障层计0.5至5重量%质量含量的MoSi2粉末,
和额外的基于MoSi2质量含量计 2至12重量%质量含量的铝。
10.根据前述权利要求9的热障层,
其包含具有5至10重量%铝含量的MoSi2。
11.根据前述权利要求9至10任一项的热障层,
其包含具有额外最多2重量%硼含量的MoSi2。
12.根据权利要求9至11任一项的热障层,
其中所引入的MoSi2具有5 μm至60 μm的中值粒径d50,优选10 μm至50 μm的中值粒径。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆