[发明专利]制备低密度聚乙烯的低压方法

权利要求书

1.一种聚合烯烃的方法，所述方法包括：

a)提供催化剂系统，其包括以下的接触产物：

1)一种或多种过渡金属化合物，每种具有根据式(I)的化学式：

其中

M是Ni；

X¹和X²各自独立地是单阴离子配体，或者X¹和X²一起是二齿双阴离子配体；

R¹和R⁴各自独立地是C₁-C₂₀烃基或取代烃基，和

R²和R³各自独立地是H、C₁-C₂₀烃基或取代烃基，或者R²和R³一起是C₂-C₂₀亚烃基或取代亚烃基以形成碳环状环；

2)至少一种第一活化剂，其包括有机铝化合物、有机锌化合物、有机镁化合物、有机锂化合物、有机硼或有机硼酸盐化合物、电离化离子化合物、铝氧烷化合物、或其任何组合；和

3)第二活化剂，其包括用吸电子阴电离化学处理的固体氧化物；和b)使所述催化剂系统在适合形成具有每1,000个总碳中4至15个短链分支的聚乙烯的聚合条件下与包含乙烯的至少一种烯烃单体接触。

2.根据权利要求1所述的方法，其中R¹和R⁴各自独立地是芳基或取代芳基。

3.根据权利要求1所述的方法，其中R²和R³合在一起是C₆-C₂₀亚烃基或取代亚烃基以形成碳环状环。

4.根据权利要求1所述的方法，其中R²和R³合在一起是具有下式的取代或未取代基团：

5.根据权利要求1所述的方法，其中R¹和R⁴不同。

6.根据权利要求1所述的方法，其中R¹和R⁴相同。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种过渡金属化合物的所述或其任何组合。

8.根据权利要求1所述的方法，其中：

a)X¹和X²各自独立地为卤化物、氢化物、C₁至C₂₀烃基或C₁至C₂₀烃氧化物、或X¹和X²合在一起为C₁至C₂₀烃基二氧化物；

b)X¹和X²各自独立地为氯化物、溴化物、碘化物、氢化物、C₁至C₂₀烃基或C₁至C₂₀烃氧化物；

c)X¹和X²各自独立地为氯化物、溴化物、氢化物或C₁-C₄醇盐；或

d)X¹和X²合在一起是乳酸盐、乙醇酸盐、水杨酸盐、儿茶酚盐、草酸盐或丙二酸盐。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种过渡金属化合物是

或其任何组合。