[发明专利]光固化性树脂组合物、其树脂层以及压印用模具在审
申请号: | 201780030472.3 | 申请日: | 2017-05-15 |
公开(公告)号: | CN109155236A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 宫泽幸大;武田亚衣 | 申请(专利权)人: | 综研化学株式会社 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;B29C33/38;B29C59/04;C08F2/44;C08F220/18;C08F290/06 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光固化性树脂组合物 树脂层 光固化性组合物 丙烯酸酯化合物 有机硅低聚物 硅原子键合 压印用模具 耐溶剂性 剥离层 烷氧基 | ||
本发明提供一种光固化性组合物,该光固化性组合物能够形成具有耐溶剂性的树脂层,且能够容易地将剥离层形成于树脂层上。根据本发明,提供一种光固化性树脂组合物,该光固化性树脂组合物包含具有与硅原子键合的烷氧基的有机硅低聚物以及(甲基)丙烯酸酯化合物。
技术领域
本发明的几个观点涉及光固化性树脂组合物、其树脂层、以及压印用模具。
背景技术
作为压印用树脂制模具,已公开了在树脂模具上形成有由无机化合物构成的成型层、以及剥离层(脱模层)的压印用树脂制模具(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1国际公开第2008/149544号
发明内容
发明要解决的课题
然而,为了形成专利文献1中所公开的由无机化合物构成的成型层,需要蒸镀装置,因此会造成得到的树脂製模具的价格会非常昂贵。
于是,需要形成不依赖于无机化合物的成型层以及剥离层,但是通过压印加工形成的凹凸图案中,要求进一步的微细化或形状或尺寸的一致性,以有机溶剂洗涤压印加工中形成的凹凸图案来去除杂质的时候,要求耐溶剂性高的树脂层。另外,要求容易形成剥离性高的剥离层的树脂层。
本发明是鉴于这种情况而进行的,提供一种光固化性树脂组合物,该光固化性树脂组合物能够形成具有耐溶剂性的树脂层,且能够容易地在树脂层上形成剥离层的光固化性树脂组合物。
解决课题的技术手段
根据本发明,提供一种光固化性树脂组合物,该光固化性树脂组合物包含具有与硅原子键合的烷氧基的有机硅低聚物以及(甲基)丙烯酸酯化合物。
本发明人对于能够形成具有耐溶剂性的树脂层,且能够容易地在树脂层上形成剥离层的光固化性树脂组合物进行研究,发现可以包含具有与硅原子键合的烷氧基的有机硅低聚物以及(甲基)丙烯酸酯化合物,完成了本发明。
以下例示本发明的各种实施方式。以下示出的实施方式可以相互结合。
优选所述(甲基)丙烯酸酯化合物中,3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物的配合比例为60质量%以上。
优选所述有机硅低聚物在取代基中具有反应性官能团。
根据本发明的别的观点,提供一种利用上述树脂组合物形成的树脂层。
根据本发明的别的观点,提供一种包含上述树脂层的压印用模具。
具体实施方式
以下对本发明进行具体说明。
本发明是包含有机硅低聚物以及(甲基)丙烯酸酯化合物的光固化性树脂组合物,有机硅低聚物具有与硅原子键合的烷氧基。
本说明书中,(甲基)丙烯酰基是指,甲基丙烯酰基以及/或者丙烯酰基,(甲基)丙烯酸酯是指,甲基丙烯酸以及/或者丙烯酸。
<光固化性树脂组合物>
1.有机硅低聚物
本发明的光固化性树脂组合物中含有的有机硅低聚物具有与硅原子键合的烷氧基。
本发明中,有机硅低聚物是指,以除了单体的二聚体以上的硅氧烷键(-Si-O-Si-)作为主链的低聚物。
本发明中,有机硅低聚物具有与硅原子键合的烷氧基。通过含有具有与硅原子键合的烷氧基的有机硅低聚物,形成树脂层的树脂表面具有与剥离处理剂的反应点,能够容易且高效地形成剥离层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于综研化学株式会社,未经综研化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780030472.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造