[发明专利]使用图案化疏水性表面进行的自组装图案化有效
申请号: | 201780030534.0 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN109313396B | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 吴怡萱;林彦佑;M·谢恩·博文;西里尔·德拉特;法比恩·阿贝尔;塔伦·库拉纳;阿诺德·里瓦尔;普尔亚·萨伯恩希;袁大军;玛利亚·坎德拉里亚·罗格特巴奇伽鲁普 | 申请(专利权)人: | ILLUMINA公司 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40;G03F7/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;洪欣 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 图案 疏水 表面 进行 组装 | ||
1.包括固体支撑物的具有凝胶涂覆的轮廓的图案化表面,其包括:
表面,所述表面包括连续的疏水性涂覆层;
光刻胶层,其在所述固体支撑物的疏水性涂覆层上,其中所述光刻胶层包括微米尺度或纳米尺度的轮廓;和
在所述微米尺度或纳米尺度的轮廓内的凝胶材料层,其中所述凝胶材料能够共价键合至寡核苷酸;
其中所述疏水性涂覆层经由第一粘附促进层与所述表面接触,所述第一粘附促进层包括具有主链结构以及羧基末端官能团的无定形全氟化聚合物CYTOP-A、(3-氨基丙基)三甲氧基硅烷(APTMS)或(3-氨基丙基)三乙氧基硅烷(APTES),或者它们的组合;
其中所述光刻胶经由包含氟化表面活性剂的第二粘附促进层与所述固体支撑物的疏水性涂覆层接触。
2.如权利要求1所述的图案化表面,其中所述轮廓由疏水性间隙区分隔开,并且还包括(a)结合材料层,或(b)硅烷层,其中所述结合材料层或硅烷层覆盖至少一部分的所述轮廓和一部分的所述疏水性间隙区。
3.如权利要求1所述的图案化表面,其中至少一部分的所述微米尺度或纳米尺度的轮廓不含所述疏水性涂覆层。
4.如权利要求1所述的图案化表面,其中所述轮廓包括孔。
5.如权利要求1所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含氟化聚合物、全氟化聚合物或硅聚合物或其混合物。
6.如权利要求5所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含无定形氟聚合物、具有主链结构以及甲硅烷基化酰胺末端官能团的无定形全氟化聚合物CYTOP-M、具有主链结构以及三氟甲基末端官能团的无定形全氟化聚合物CYTOP-S、CYTOP-A、聚四氟乙烯、Teflon、派瑞林、氟化烃、氟丙烯酸共聚物、Cytonix Fluoropel、氟硅烷、等离子体沉积的氟碳、硅聚合物、聚二甲基硅氧烷或硅氧烷或者它们的混合物。
7.如权利要求6所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含全氟化聚合物。
8.如权利要求5所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含CYTOP-M、CYTOP-S或CYTOP-A或其混合物。
9.如权利要求7所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含CYTOP-S。
10.如权利要求7所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含CYTOP-M。
11.如权利要求7所述的图案化表面,其中所述疏水性涂覆层包含CYTOP-S和CYTOP-A。
12.如权利要求1所述的图案化表面,其中所述氟化表面活性剂是Surflon S-651、Novec FC-4430、Novec FC-4432、Novec FC-4434、Novec FC-5210、Zonyl FSN-100、ZonylFS-300、Zonyl FS-500、Capstone FS-10、Capstone FS-30、Capstone FS-60、Capstone FS-61、Capstone FS-63、Capstone FS-64或Capstone FS-65或其组合。
13.如权利要求1至11中任一项所述的图案化表面,其中所述光刻胶是Shipley S1800™系列光刻胶。
14.如权利要求13所述的图案化表面,其中所述光刻胶选自Shipley S1818(MICROPOSIT™ S1818™)和Shipley S1805 (MICROPOSIT™ S1805™)。
15.如权利要求1至11中任一项所述的图案化表面,其中所述凝胶材料包括PAZAM。
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