[发明专利]投影曝光装置及投影曝光方法

说明书

一种投影曝光装置，具有：滑动载物台(120)，形成有用于载置工件的多个区域(110、111)；第一装载器(310)和第二装载器(311)，能够装载以及卸载工件(510、511)；第一位置检测设备(210)；第二位置检测设备(211)；控制光源(10)、光掩模(20)以及投影光学系统(50)；以及控制部(410)，控制滑动载物台(120)以及各部，在对载置于第二区域(111)内的工件(511)进行投影曝光时，控制部(410)实施对载置于第一区域(110)内的工件(510)的载置位置进行检测的并行处理，在对载置于第一区域(110)内的工件(510)进行投影曝光时，控制部(410)实施对载置于第二区域(111)内的工件(511)的载置位置进行检测的并行处理。

技术领域

本发明涉及提高投影曝光装置的吞吐量的技术，尤其涉及通过减少总的投影曝光时间来提高吞吐量的技术。

背景技术

例如，参考文献1或参考文献2公开了通过使用光刻技术使光掩模(光罩)上的图案转印到晶圆或基板等工件上的投影曝光装置。

在参考文献1中，原板(光罩：光掩模)上的图案通过投影透镜而被投影到在可沿X(横)-Y(纵)-θ(旋转)方向移动的载物台(或载置台)上载置的一个被曝光体(工件)上。通过使用激光干涉仪的位置检测设备来检测被曝光体(工件)在XY各个方向上的位置。在参考文献1中，公开了用于高精度地进行步进式曝光中的光罩与晶圆的对位的步进式移动方向，以及晶圆相对于位置检测设备的激光干涉仪的移动方向。

在参考文献2中，不仅载置一个工件的载物台(或载置台)能够沿X(横)-Y(纵)-θ(旋转)方向移动，而且载置光掩模(光罩)的桌也能够沿X(横)-Y(纵)-θ(旋转)方向移动。在参考文献2中，公开了能够单独地设定两个桌的扫描方向和扫描速度等的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-203161号

专利文献2：特开平11-260697号

然而，由于作为工件的材料，有时使用例如像结晶材料这样的具有脆性的材料、或非结晶的如玻璃等的脆性的材料，因此需要谨慎处理，换句话说需要经过较慢的时间来进行。因此，将工件装载到载置台上的可曝光区域内以及从载置台上的可曝光区域内卸载所需的时间非常长，例如需要70秒等。

另外，由于近年来的转印图案的高精细化，因此对于利用投影曝光装置在工件上转印图案时的、载置台上的工件的位置检测需要高精度，并且位置检测所需的时间有增加的倾向。另外，如步进式曝光等，在向多个位置移动的同时实施多次曝光的情况下，需要更多位置检测时间。

在如专利文献1和2的以往的投影曝光装置中，首先，将工件装载到载置台上的规定位置，接着检测该工件在载置台上的位置，然后根据检测出的位置而将载置台或光掩模的位置在各个方向上进行调整并实施曝光。即，在以往的投影曝光装置及其投影曝光方法中，由于依次且单独地实施每个处理，因此为了缩短总的处理时间，只能缩短每个处理所需时间，或缩短各个处理之间的切换时间。

发明内容

本发明鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供一种投影曝光装置及其投影曝光方法，该投影曝光装置通过能够并列实施投影曝光工序中的工件的装载/卸载、载置台上的被载置的工件的位置检测以及与工件的位置对应的投影曝光的各个处理中的至少两个处理，从而与以往相比能够缩短总的处理时间。