[发明专利]投影透镜

说明书

投影透镜(LN)具有透镜基板(10)和形成在透镜基板(10)的表面的至少由八层构成的防反射膜(20)。从空气侧起数，防反射膜(20)的第一层(21)的材料为MgF₂，第二层(22)、第四层(24)、第六层(26)以及第八层(28)的折射率为2.0～2.3，第三层(23)、第五层(25)以及第七层(27)的材料为SiO₂，在设计主波长λ₀＝550nm的情况下的、相对于透镜基板(10)的折射率n_s的第一层(21)～第八层(28)的1/4波长光学膜厚Q₁～Q₈满足预先决定的式(1)～式(8)。

技术领域

本发明涉及投影透镜。

背景技术

近年来，具有伴随着投影透镜所投影的影像的高像素化而要求的成像性能提高，结构透镜的枚数增加的趋势。关于该趋势，例如在针对折射率1.52的透镜基板的表面形成以往的四层防反射膜的透镜15枚结构的投影透镜的情况下，在投影透镜整体中，可见光波长范围平均产生约5％的光的反射损失。并且，在透镜30枚结构的投影透镜的情况下，产生约10％的光的反射损失，有投影到被投影面的影像的亮度大幅度地降低之虞。因此，为了与结构透镜枚数的增加对应地抑制投影透镜的整体系统透射率的降低，针对透镜基板，需要更低反射率、光的损失少的防反射膜。在专利文献1中公开了与该课题的解决相关的现有技术的一个例子。

对于专利文献1所记载的防反射膜而言，从基板侧起数，在第一层形成与基板相比折射率小的材料，在第二、四、六、八层形成高折射率材料，在第三、五、七、九层形成低折射率材料，将各层的光学膜厚分别独立地设定为与设计波长有关的规定值。由此，防止从紫外区域到红外区域的广泛的波长带域中的反射。

专利文献1：日本特开2002-267803号公报

然而，在专利文献1所记载的现有技术中，即使是可见光波长范围(例如420nm～690nm)的最大反射率最低的实施方式，也约为0.5％，比较高。由此，并不足以针对最近的影像的高像素化而应用于投影透镜成为课题。

发明内容

本发明是鉴于上述的点而完成的，其目的在于提供能够有效地抑制整体系统透射率的降低，并且能够应对结构透镜枚数的增加的投影透镜。

为了解决上述的课题，本发明的特征在于，在将影像投影至被投影面的投影透镜中，具有：透镜基板；以及形成在上述透镜基板的表面的至少由八层构成的防反射膜，从空气侧起数，上述防反射膜的第一层的材料为MgF₂，第二层、第四层、第六层以及第八层的折射率为2.0～2.3，第三层、第五层以及第七层的材料为SiO₂，在设计主波长λ₀＝550nm的情况下的、相对于上述透镜基板的折射率n_s的上述第一层～上述第八层的1/4波长光学膜厚Q₁～Q8满足下述式(1)～式(8)，

式(1)Q₁＝0.05×n_s+A1(0.79≤A1≤0.91)

式(2)Q₂＝0.09×n_s+A2(1.64≤A2≤1.79)

式(3)Q₃＝0.10×n_s+A3(1.65≤A3≤1.90)

式(4)Q₄＝-0.31×n_s+A4(1.01≤A4≤1.23)

式(5)Q₅＝A5(0.10≤A5≤0.35)

式(6)Q₆＝0.79×n_s+A6(-1.64≤A6≤0.01)