[发明专利]透光性导电膜、以及具有图案状导电层的透光性导电膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780032474.6 申请日: 2017-09-28
公开(公告)号: CN109155167B 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 伊神俊辉;滝泽守雄;相川明弘;林秀树 申请(专利权)人: 积水化学工业株式会社;积水纳米涂层科技有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;C08J7/06;B32B7/02;H01B13/00;G03F7/20;G03F7/42
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 透光 导电 以及 具有 图案 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种透光性导电膜,其具有:

具有透光性和导电性的导电层、

配置于所述导电层的一个表面侧的基材,并且,

所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的表面张力为28dyn/cm以上且34dyn/cm以下,

在所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的70μm×90μm的视野中的算术平均高度Sa为0.5nm以上且20nm以下,

在所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面的1.0μm×1.0μm的范围中的算术平均粗糙度Ra为2.0nm以上且15nm以下。

2.根据权利要求1所述的透光性导电膜,其中,

所述导电层是发生了结晶化的导电层。

3.根据权利要求1或2所述的透光性导电膜,其通过使干膜抗蚀剂与所述导电层的外侧的表面接触来使用。

4.一种具有图案状导电层的透光性导电膜的制造方法,该方法包括以下工序:

使干膜抗蚀剂与权利要求1~3中任一项所述的透光性导电膜的所述导电层的与所述基材侧相反的一侧的表面接触的工序;

将所述导电层制成图案状的导电层的工序;以及

剥离所述干膜抗蚀剂的工序。

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