[发明专利]用于分子设计及模拟的系统和方法

权利要求书

1.一种用于模拟分子结构的系统，包括：

处理器，配置为模拟所述分子结构；

头戴式显示器HMD，配置为显示所述分子结构；以及

至少一个输入设备，配置为：

接收来自用户的输入，所述输入指示在6个自由度DoF中的移动，以及

基于额外的用户输入和所述分子结构的至少一种属性，选择性地将6个DoF之一映射到用于改变所述分子结构的多种限定技术之一，

其中所述处理器被配置为基于被映射到所选择限定技术的所接收的输入来更改所述分子结构，

其中所述处理器还被配置为确定所述分子结构的类型是结晶分子结构，其中所述至少一个输入设备还被配置为将所述输入设备的三个空间DoF映射到三个缩放值，所述三个缩放值沿三个轴限定所述分子结构的尺度。

2.根据权利要求1所述的系统，其中使用所选择的限定技术更改所述分子结构包括将变换矩阵应用于所述分子结构，并且其中将6个DoF之一映射到多种限定技术之一包括将6个DoF之一中的变化映射到所述变换矩阵的多个值中的一个。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述至少一个输入设备还被配置为将所述输入设备的至少一个旋转DoF映射到所述结晶分子结构的米勒平面。

4.一种用于模拟分子结构的系统，包括：

处理器，配置为模拟所述分子结构；

头戴式显示器HMD，配置为显示所述分子结构；以及

至少一个输入设备，配置为：

接收来自用户的输入，所述输入指示在6个自由度DoF中的移动，以及

基于额外的用户输入和所述分子结构的至少一种属性，选择性地将6个DoF之一映射到用于改变所述分子结构的多种限定技术之一，

其中所述处理器被配置为基于被映射到所选择限定技术的所接收的输入来更改所述分子结构，

其中所述处理器还被配置为确定所述分子结构的类型是碳纳米管，其中所述至少一个输入设备还被配置为仅将从输入设备接收的三个空间DoF中的一个映射至一缩放值，所述缩放值沿所述碳纳米管的长度限定所述分子结构的尺度。

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述至少一个输入设备还被配置为将从输入设备接收的至少一个旋转DoF映射到值，其中所述值指示所述碳纳米管的手性。

6.一种用于模拟分子结构的系统，包括：

处理器，配置为模拟所述分子结构；

头戴式显示器HMD，配置为显示所述分子结构；以及

至少一个输入设备，配置为：

接收来自用户的输入，所述输入指示在6个自由度DoF中的移动，以及

基于额外的用户输入和所述分子结构的至少一种属性，选择性地将6个DoF之一映射到用于改变所述分子结构的多种限定技术之一，

其中所述处理器被配置为基于被映射到所选择限定技术的所接收的输入来更改所述分子结构，

其中所述HMD还被配置为显示由所述用户可选择的多种材料的属性的图表，其中所述至少一个输入设备还被配置为接收用户对多种材料中一个的选择，并且其中所述HMD还被配置为响应于对多种材料中一个的选择而显示所述分子结构。

7.一种用于模拟分子结构的系统，包括：

处理器，配置为模拟所述分子结构；

头戴式显示器HMD，配置为显示所述分子结构；以及

至少一个输入设备，配置为：

接收来自用户的输入，所述输入指示在6个自由度DoF中的移动，以及

基于额外的用户输入和所述分子结构的至少一种属性，选择性地将6个DoF之一映射到用于改变所述分子结构的多种限定技术之一，

其中所述处理器被配置为基于被映射到所选择限定技术的所接收的输入来更改所述分子结构，

其中所述至少一个输入设备还包括按钮，并且其中所述至少一个输入设备还被配置为基于所述用户对所述按钮的致动来切换选择性映射的激活。