[发明专利]化学传感器在审
申请号: | 201780033376.4 | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN109564159A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | R·H·霍普尔;A·德卢卡;K·莱蒂斯;S·Z·艾利;M·F·乔杜里 | 申请(专利权)人: | AMS传感器英国有限公司 |
主分类号: | G01N21/3504 | 分类号: | G01N21/3504;G01N33/00;G01N21/03;G01J5/08 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 刘亭亭;陈小莲 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 光学检测器 介电区域 蚀刻 基底区域 介电膜 化学传感装置 化学传感器 传感装置 检测 流体 光路 基底 发射 传播 | ||
1.一种用于检测流体的化学传感装置,所述传感装置包括:
包含至少一个蚀刻部分的至少一个半导体基底区域;
形成在所述至少一个基底区域上的介电区域,其中,所述介电区域包含与所述至少一个蚀刻部分相邻的至少一个介电膜区域;
用于发射红外(IR)信号的光源;
用于检测从所述光源发出的IR信号的光学检测器;
形成在所述介电区域之上或之下的一个或多个另外的基底,其中,所述一个或多个另外的基底限定用于IR信号从光源传播到光学检测器的光路;以及
其中,所述光源和所述光学检测器中的至少一个至少部分地形成在所述介电膜区域之中或之上。
2.根据权利要求1所述的传感装置,其中,所述至少一个基底区域包含第一蚀刻部分和第二蚀刻部分,以及
其中,所述介电区域包含与所述第一蚀刻部分相邻的第一介电膜区域和与所述第二蚀刻部分相邻的第二介电膜区域,以及
其中,所述光源位于所述第一介电膜区域内,且所述光学检测器位于所述第二介电膜区域内。
3.根据权利要求2所述的传感装置,其中,所述光源和光学检测器彼此横向间隔开。
4.根据权利要求1所述的传感装置,其中,所述至少一个基底区域包含第一基底和第二基底,
其中,所述第一基底包含第一蚀刻部分和与所述第一蚀刻部分相邻形成的第一介电膜区域,以及
其中,所述第二基底包含第二蚀刻部分和与所述第二蚀刻部分相邻形成的第二介电膜区域,并且其中,所述光源位于所述第一介电膜区域内,以及所述光学检测器位于所述第二介电膜区域内。
5.根据权利要求4所述的传感装置,其中,所述光源和所述光学检测器彼此垂直间隔开,并且其中,所述一个或多个另外的基底在所述第一和第二介电膜区域之间垂直间隔开。
6.根据权利要求1所述的传感装置,其中,所述一个或多个另外的基底各自包含蚀刻部分。
7.根据权利要求6所述的传感装置,其中,该传感装置还包括流体腔室,所述流体腔室由所述一个或多个另外的基底的所述至少一个蚀刻部分形成。
8.根据权利要求7所述的传感装置,其中,所述流体腔室包含至少部分地沿着所述流体腔室的周边的反射层,并且其中,所述反射层包括含有金、铝、铜、银和/或铂的材料。
9.根据权利要求7或8所述的传感装置,其中,所述流体腔室包含用于使目标流体进入或离开所述流体腔室的流体中空通道。
10.根据权利要求7-9中任一项所述的传感装置,其中,所述流体腔室具有螺旋形,曲折形或任何其他几何形状,以使得IR信号能够从所述光源传播到所述光学检测器。
11.根据权利要求7-10中任一项所述的传感装置,其中,该传感装置还包括在所述介电层和所述流体腔室之间的微流体通道,用于使目标液体流过所述微流体通道。
12.根据权利要求1所述的传感装置,其中,所述一个或多个另外的基底与所述介电区域间隔开,以形成用于目标流体进入或离开所述传感装置的开口。
13.根据权利要求12所述的传感装置,其中,该传感装置还包括在所述介电区域和所述一个或多个另外的基底之间的所述开口中的球形键合。
14.根据前述权利要求中任一项所述的传感装置,其中,所述传感装置被配置为使用衰减全反射技术来感测流体,以使得所述一个或多个另外的基底的一层的一侧接收和传输所述IR信号,并传播所述IR信号借助全内反射通过所述一层,或作为经受在所述一层的相对侧上的流体影响的倏逝波。
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