[发明专利]用于片材元件加工机的质量控制站和用于质量控制站的照明单元在审
申请号: | 201780033484.1 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN109313140A | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | M·理查德;F·皮劳德 | 申请(专利权)人: | 鲍勃斯脱梅克斯股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/89 | 分类号: | G01N21/89 |
代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 金星 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 照明单元 质量控制 片材元件 加工机 摄像机 观察区域 发光器 反射器 光引导 恒定的 捕获 图像 传输 | ||
1.一种用于片材元件加工机的质量控制站(2),具有至少一个摄像机(6),用于捕获传输通过所述质量控制站(2)的片材元件(4)的图像,并且还具有一个照明单元(5),所述照明单元(5)具有至少一个发光器(16)和两个反射器(12、14),所述照明单元(5)用于将光引导到所述摄像机(6)的观察区域上,使得尽管改变了介质厚度,但照明强度是恒定的。
2.根据权利要求1所述的质量控制站(2),其中,所述照明单元(5)包括承载所述发光器(16)的基座(10),所述发光器(16)沿所述照明单元(5)的长度延伸,所述两个反射器(12、14)沿所述发光器(16)延伸并且布置成彼此面对,每个所述反射器(12、14)在横截面中观察时具有抛物线或非球面轮廓、特别是圆锥形轮廓。
3.根据权利要求1或2所述的质量控制站,其中,所述发光器(16)由彼此相邻布置的多个LED形成。
4.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,所述发光器(16)布置成紧邻所述基座(10)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,在所述照明单元(5)的光学平面(O5)与所述反射器(12、14)之间存在约20°的打开角度。
6.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,还包括漫射器(18)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,所述两个反射器(12、14)具有相同的轮廓。
8.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,所述照明单元(5)的长度大于200mm。
9.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,所述反射器(12、14)的光学平面(O5)相对于平面(P)以大约45°的角度(β)布置,平面(P)垂直于其中布置有观察区域的平面(9)。
10.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,所述摄像机(6)的光学平面(O6)相对于平面(P)以大约20°的角度(α)布置,平面(P)垂直于其中布置有观察区域的平面(9)。
11.根据前述权利要求中任一项所述的质量控制站,其中,所述发光器(16)布置成距所述观察区域(7)60至120mm、特别是90mm。
12.一种照明单元(5),用于在前述权利要求中任一项所述的质量控制系统中使用。
13.一种用于质量控制站的照明单元(5),包括:一个底座(10),其承载沿着所述照明单元(5)的长度延伸的至少一个发光器(16)以及沿所述发光器(16)延伸并且布置成彼此面对的两个反射器(12、14),每个所述反射器(12、14)在横截面中观察时具有圆锥形轮廓,所述照明单元(5)在对应于照明场的矩形区域上提供基本均匀的辐照分布,照明场在介质馈送方向上延伸一定距离,并且辐照的均匀分布存在于照明场上方的不同水平处,直到在照明场上方一定距离的水平面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鲍勃斯脱梅克斯股份有限公司,未经鲍勃斯脱梅克斯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780033484.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图案结构物的检测装置及检测方法
- 下一篇:表面检查系统和检查方法