[发明专利]用于从基板去除物质的水溶液和方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂清洗溶液，所述溶液由以下组成：

四烷基取代的氢氧化铵，所述四烷基取代的氢氧化铵选自：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、二甲基二丙基氢氧化铵、乙基三甲基氢氧化铵，以及其中至少两者的组合；

胺，所述胺选自：单乙醇胺、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯、四亚乙基五胺，以及其中至少两者的组合；

C₄-C₁₄二元酸或其胺盐中的至少一者；

水；

任选地糖醇；和

任选地消泡剂。

2.根据权利要求1所述的溶液，其中所述C₄-C₁₄二元酸选自十二烷二酸、癸二酸和十一烷二酸。

3.根据权利要求1所述的溶液，所述溶液包含糖醇。

4.根据权利要求3所述的溶液，其中所述糖醇选自甘油、山梨糖醇和木糖醇。

5.一种光致抗蚀剂清洗溶液，所述溶液由以下组成：

量为所述溶液的总重量的约1重量％至约8重量％的四烷基取代的氢氧化铵，所述四烷基取代的氢氧化铵选自：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、二甲基二丙基氢氧化铵、乙基三甲基氢氧化铵，以及其中至少两者的组合；

量为所述溶液的总重量的约0.8重量％至约10重量％的胺，所述胺选自：单乙醇胺、四亚乙基五胺、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯，以及其中至少两者的组合；

量为所述溶液的总重量的约0.1重量％至约9重量％的C₄-C₁₄二元酸或其胺盐中的至少一者；

量小于所述溶液的总重量的约15重量％的糖醇；

任选地消泡剂；和

余量的至100重量％的水。

6.根据权利要求5所述的溶液，其中所述糖醇选自甘油、山梨糖醇和木糖醇。

7.根据权利要求5所述的溶液，其中所述C₄-C₁₄二元酸选自十二烷二酸、癸二酸和十一烷二酸。

8.一种光致抗蚀剂清洗溶液，所述溶液由以下组成：

所述溶液的总重量的约3重量％至约5重量％的四烷基取代的氢氧化铵，所述四烷基取代的氢氧化铵选自：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和它们的组合；

所述溶液的总重量的约2重量％至约4重量％的胺，所述胺选自：单乙醇胺、四亚乙基五胺、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯，以及其中至少两者的组合；

所述溶液的总重量的约0.1重量％至约2重量％的二元酸或其胺盐，所述二元酸选自十二烷二酸、癸二酸、十一烷二酸，及其混合物；

任选地糖醇；

任选地消泡剂；和

余量的至100重量％的水。

9.根据权利要求8所述的溶液，所述溶液包含所述溶液的总重量的约1重量％至约3重量％的糖醇。

10.根据权利要求9所述的溶液，其中糖醇选自甘油、山梨糖醇和木糖醇。

11.根据权利要求9所述的溶液，其中糖醇为甘油。

12.一种光致抗蚀剂清洗溶液，所述溶液由以下组成：

所述溶液的总重量的约1重量％至约5重量％的四乙基氢氧化铵；

所述溶液的总重量的约2重量％至约5重量％的单乙醇胺；

所述溶液的总重量的约0.1重量％至约2重量％的十二烷二酸、癸二酸、或十一烷二酸，其组合或者它们的胺盐；

所述溶液的总重量的约0.1重量％至约2重量％的糖醇；

任选地消泡剂；和

余量的至100重量％的水。

13.根据权利要求12所述的溶液，其中所述糖醇为甘油。

14.根据权利要求12所述的溶液，其中

所述四乙基氢氧化铵以所述溶液的总重量的约2重量％至约5重量％的量存在；

所述单乙醇胺以所述溶液的总重量的约2重量％至约4重量％的量存在；

所述癸二酸或其胺盐以所述溶液的总重量的约0.1重量％至约1重量％的量存在；

所述糖醇为甘油，其以所述溶液的总重量的约0.1重量％至约2重量％的量存在；和

余量为至100重量％的水。